Com o aumento dos requisitos de refinamento do processo e a pressão dos custos, o monitoramento da qualidade da água das empresas já não é“Parâmetros”É tão simples quanto a estabilidade do processo, o gerenciamento do consumo de energia, a vida útil do equipamento e a eficiência operacional geral.

Os hashes continuam a expandir a profundidade e a largura do monitoramento da qualidade da água para cobrir mais parâmetros e cenários de processo críticos em situações complexas:

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Aplicações de nitrogênio dissolvido em água funcional de semicondutores

Introdução de fundo

No salão de alta tecnologia, os chips semicondutores são, sem dúvida, a pérola brilhante. No entanto, a pérola não nasceu da noite para o dia, com inúmeros processos artesanais delicados e exigentes por trás. Nestes muitos aspectos, os requisitos de pureza da água são quase exigentes. Portanto, a água ultrapura desempenha um papel crucial no processo de produção de chips semicondutores.

Por que controlar o nitrogênio dissolvido na água funcional?

A água ultrapura é a água de processo da indústria de microeletrônica, e as fábricas de semicondutores usam água ultrapura em grande quantidade, principalmente para limpeza úmida antes e depois de vários processos. Além de remover o gás da água ultrapura, a fim de satisfazer os requisitos de uso de certas instalações específicas de semicondutores, também é necessário adicionar gás à água ultrapura para atender às funções específicas da máquina, a água ultrapura desses gasificados também é conhecida como água funcional.

A água funcional altera a solução através da adição de uma concentração específica de substância.ZETAPotencial (refere-se ao potencial da superfície de corte, também chamado de potencial elétrico ou potencial elétrico, é um indicador importante para caracterizar a estabilidade do sistema de dispersão colóide). Usando o conceito de força química para alterar a distribuição de íons na superfície do objeto de limpeza, obtendo o mesmo efeito de repulsão de carga elétrica, aumentando assim a taxa de remoção de algumas partículas de nanoescala. emCMPNo sistema (polimento mecânico químico), através do ciclo de reações químicas e processo de remoção mecânica para alcançar o plano global ou local do wafer, com os requisitos do wafer cada vez mais elevados, o processo se torna cada vez mais complexo,CMPA frequência de limpeza de dezenas de vezes originais para a atual de centenas de vezes ou mais, ao mesmo tempo que introduz alguns gases especiais durante o processo de polimento, melhorando assimCMPA taxa de remoção de materiais e a qualidade da superfície, reduzindo a taxa de maus produtos.

Para obter melhores resultados de limpeza, geralmente o nitrogênio é adicionado à água ultrapura, mas também é necessário um controle preciso da solubilidade do nitrogênio solúvel. HashesOrbisfera 511A série de analisadores de nitrogênio dissolvido on-line oferece uma capacidade precisa e poderosa de monitoramento de processo.

Como controlar com precisão o nitrogênio dissolvido?

Instalação de uma fábrica eletrônica no paísOrbisfera511Analisador de nitrogênio dissolvido on-line (como mostrado abaixo) para dados de um determinado período de tempo, dados estáveis ​​a longo prazo10 ~ 16ppm- É.

De acordo com o feedback do pessoal no local,HACHO nitrogênio dissolvido tem excelente desempenho no local, baixa quantidade de manutenção e só precisa ser mantido uma vez por ano.

deOrbisfera511Dependendo da aplicação no local,511O design da sonda da série de produtos pode garantir que a medição do sensor seja precisa, confiável e de curto tempo de resposta, com um excelente mecanismo de compensação de temperatura incorporado, que garante uma ampla aplicação do instrumento, o usuário monitora on-line o nitrogênio dissolvido através deste instrumento, alcançando o controle preciso da água funcional, fornecendo dados de monitoramento eficazes para o controle do processo de água do usuário, ao mesmo tempo que garante a operação estável do processo posterior do usuário.