No processo de produção de filmes finas, certos compostos orgânicos metálicos (MOCsa pressão de vapor dos precursores, tais como hidrogenos e amônia, é muito inferior à pressão atmosférica padrão (760 TorrÉ difícil de evaporar a temperatura normal. Estes precursores precisam ser transportados para a deposição de gás químico.(CVD)Em um reator, o método tradicional é o uso de solventes./Química de solíduos e transporte de líquidos. Alguns precursores sólidos têm limitações de solubilidade, o que afeta o fluxo máximo de massa transportado para a cavidade de processo.

Adotamos a tecnologia avançada de medição e controle da pressão para controlar diretamente o transporte de vapor de precursor sólido, sem o uso de solventes, permitindo um transporte preciso e repetido, tornando a preparação de materiais de película fina mais eficiente.

Para atender às necessidades de diferentes áreas de fluxo, nossos controladores de baixa pressão de vapor incorporamCPUPode alcançar uma ampla gama de controle de fluxo inteligente, a gama de controle é completa10%~100%- É.

Este controlador de baixa pressão de vapor30℃~200℃Mantenha o controle estável dentro do intervalo de temperatura de operação e é adequado para ambientes difíceis. AdopçãoModbusAcordo (RS485 / 232facilitar a conexão com computadores ou outros dispositivos, comunicação de dados e controle remoto.

Amplamente utilizado em várias indústrias de processo de produção de película fina, como fabricação de circuitos integrados de semicondutores, células solares de película fina fotovoltaica, pesquisa e desenvolvimento de novos materiais, biosensores de dispositivos médicos e muitas outras indústrias, através de processos críticos de película fina, capacitando todas as indústrias para produzir materiais de película fina de alta qualidade.

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