Secador de wafer em linhaUsando a tecnologia supercrítica, em um estado supercrítico, a substância não é nem gás nem líquido, mas tem a difusividade do gás e a capacidade de solubilidade do líquido. Essa propriedade permite que o fluido supercrítico penetre de forma eficiente nos pequenos poros da superfície do wafer, removendo o resíduo de água ou líquido de limpeza, permitindo uma secagem rápida.

　　Secador de wafer em linhaAplicado principalmente ao processo de secagem de wafer no processo de fabricação de semicondutores. Após a limpeza do wafer, a superfície permanecerá com muitos resíduos de água ou líquido de limpeza, e esses resíduos contêm impurezas dissolvidas, e se esses resíduos evaporarem e secarem por si mesmos, as impurezas voltarão a aderir à superfície do wafer, causando poluição. Portanto, é necessário usar secadores de wafer em linha para secar a superfície do wafer para remover esses líquidos residuais e garantir a qualidade do wafer.

Características do produto:

Alta confiabilidade: o design estrutural robusto e o desempenho operacional estável garantem consistência e confiabilidade durante o uso a longo prazo e reduzem a frequência de manutenção.

Automação eficiente: mecanismo de carga e descarga projetado especificamente para o processo de secagem de wafer para atender às necessidades de automação de equipamentos em linha de produção avançados e melhorar a eficiência da produção.

Adaptação ao ambiente ultra-limpo: ambiente ultra-limpo adequado para a produção de wafers para garantir que a poluição não seja introduzida durante o processo de secagem e garantir a qualidade do wafer.