Forno de aquecimento infravermelho de alta temperaturaÉ um equipamento de tratamento térmico que usa a tecnologia de radiação infravermelha para aquecimento, as características técnicas, cenários de aplicação e análise de vantagens são apresentadas a seguir:

　　Forno de aquecimento infravermelho de alta temperaturaCaracterísticas técnicas:

Princípio de aquecimento:

O forno de aquecimento infravermelho funciona com base no princípio de absorção da radiação infravermelha pelo objeto. Quando um objeto é exposto perto de uma fonte de radiação infravermelha, a energia de radiação infravermelha é absorvida pelo objeto e convertida em energia térmica, aumentando a temperatura interna do objeto.

O forno de aquecimento infravermelho de alta temperatura é projetado com uma lâmpada infravermelha de alta densidade de fluxo de energia e um espelho chapado em ouro para gerar radiação infravermelha de alta intensidade e alcançar um aquecimento rápido.

Controle de temperatura:

O forno de aquecimento infravermelho ultra-alto aquece rapidamente a amostra até 1500 ° C e é equipado com um controlador de temperatura de alta precisão para um controle preciso da temperatura.

Alguns equipamentos suportam o controle de temperatura programado para configurar múltiplas curvas de aquecimento de acordo com as necessidades experimentais.

Aquecimento Ambiental:

É adequado para aquecimento e resfriamento em ambientes como vácuo, inercia, oxidação e redução.

A cobertura traseira é equipada com um sistema de resfriamento a água para atender às necessidades de teste por longos períodos de tempo e evitar que a cobertura se deforme devido às altas temperaturas.

Aplicações

Ciência dos materiais:

Experimentos de aquecimento e análise para materiais eletrônicos, cerâmicos e metálicos.

Na indústria aeronáutica, são usados testes de aquecimento de materiais de liga de alta temperatura para garantir seu desempenho e durabilidade em ambientes de alta temperatura.

Fabricação de semicondutores:

Para aquecimento rápido e tratamento térmico de resfriamento de amostras de semicondutores.

Preparação do filme:

Na atmosfera oxidativa, é usado para a formação de cristais de óxido e a preparação de filmes finos.

Instrumentos de análise:

Pode ser conectado a dispositivos de aquecimento de amostras expostas a raios X ou UV, tais como analisadores de gás de desabsorção aquecidos, XPS, XRD, PLD, etc.

Análise de vantagens

Aquecimento rápido:

A taxa de aquecimento é superior a 1000 ℃ / min, alguns equipamentos podem até 150 ℃ / s, reduzindo significativamente o ciclo experimental.

Temperatura de alta precisão:

O uso de controladores de temperatura dedicados permite controlar a temperatura final com alta precisão, garantindo a precisão e a repetibilidade dos resultados experimentais.

Visualização:

Equipado com janelas resistentes à temperatura para observar facilmente as mudanças na amostra e com sistemas ópticos integrados para a captura de imagens.

Aquecimento limpo:

Não é necessário entrar em contato com a amostra durante o processo de aquecimento, evitando a introdução de poluição e impurezas, garantindo a pureza da amostra.

Personalização flexível:

As diferentes potências, tamanhos de zona termostática e faixas de temperatura podem ser personalizadas de acordo com as necessidades para atender às diferentes necessidades experimentais.