Na fabricação eletrônica e no processamento de metais gerais, a precisão determina tudo. Seja para garantir a integridade da placa de circuito ou para verificar a uniformidade do revestimento de proteção, a medição precisa da espessura e da composição do revestimento é essencial. O núcleo dos dispositivos XRF modernos é o detector de deriva de silício (SDD).

Se você está envolvido em revestimentos químicos de níquel (EN) ou qualquer tratamento complexo de superfícies metálicas de múltiplas camadas, investir em um analisador XRF com SDD de alto desempenho é a escolha.

Normalmente, os detectores equipados com um analisador XRF são divididos em dois tipos: contadores proporcionais ou detectores de semicondutores. Entre os detectores de semicondutores, o detector de deriva de silício (SDD) é considerado uma opção de melhor desempenho.

O detector de deriva de silício é um detector de raios-X de estado sólido que mede sua energia detectando os efeitos de ionização de fótons de raios-X gerados em cristais de silício. O SDD detecta vários elementos simultaneamente, reduzindo não apenas o número de digitalizações necessárias, mas também o tempo de medição geral.

Essas vantagens do SDD tornam-no ideal para aplicações industriais que exigem velocidade, precisão e confiabilidade, especialmente para medição de espessura de revestimento e análise de elementos.

O níquel químico, devido às suas características de resistência à corrosão, alta dureza e uniformidade do sedimento, tem sido amplamente utilizado em eletrônica, automóvel, aeroespacial e acabamento de metais gerais.

A tecnologia XRF de microzona tornou-se um instrumento fundamental para a análise da espessura do revestimento no controle de qualidade de todo o processo de níquel químico. Quando é necessário preparar ligas com diferentes proporções de níquel e fósforo, a tecnologia mede com precisão a deposição do revestimento. Como as propriedades físicas e químicas do níquel químico dependem fundamentalmente do teor de fósforo (% P), a concentração de fósforo deve ser verificada com precisão para garantir a distribuição uniforme da espessura do revestimento e alcançar o teor de fósforo objetivo.

Os dispositivos XRF tradicionais não são capazes de fazer isso: os detectores antigos não são capazes de detectar o fósforo de forma confiável (especialmente nas condições do caminho do ar). Os detectores SDD modernos, como os configurados com os analisadores de revestimento Hitachi FT230 e FT160, podem medir sincronicamente o teor de níquel e fósforo, mesmo com geometrias complexas.

O analisador FT160 de alto desempenho com sistema óptico multicapilar (tamanho de mancha < 30 µm) permite a análise de precisão sem danos de camadas de níquel químico em microcomponentes da indústria eletrônica. Seu design robusto e versátil é suficiente para lidar com ambientes industriais desafiadores.

O analisador FT230 foi concebido com um detector de deriva de silício de grande área e alta sensibilidade como núcleo, otimizado para análise de revestimentos em eletrônica e processamento de metais. O instrumento foi projetado para responder a cenários de aplicações industriais desafiadores com alta velocidade e precisão de detecção.

Alta eficiência de teste

Até 72% do tempo da inspeção XRF tradicional é gasto na sessão de preparação. O FT230 resolve esse ponto de dor com os seguintes recursos inovadores:

• Find My Part ™ (Encontre a minha amostra): carregamento automático do esquema de inspeção (com procedimento de calibração, tamanho do rectificador e parâmetros analíticos) através da tecnologia de visão de máquina

• Sistema de localização de foco automático: 60% menos tempo de preparação para medições sem limite de distância

• Câmera de observação de ângulo amplo: eficiência de posicionamento de 20%, especialmente para peças de trabalho grandes e complexas

Essas funções trabalham em conjunto para economizar cerca de 150 horas de trabalho por operador por ano.

O SDD de alto desempenho garante a precisão da detecção

O detector de deriva de silício FT230 apresenta três vantagens principais:

• Alta resolução: separação precisa de picos de características vizinhas

• Captura rápida: atender às necessidades de detecção de alto fluxo

• Características de baixo ruído: detecção confiável de elementos de baixa energia, como fósforo

Isso o torna ideal para a detecção de níquel químico, onde a medição precisa do fósforo é essencial para o desempenho do revestimento.

Plataforma de software inteligente: FT Connect

A interface FT Connect, projetada para facilitar a operação, inclui:

• Visão panorâmica de amostra: posicionamento intuitivo

• Interface de controle simplificada: foco em objetivos de detecção e apresentação de resultados

• Exportação automática de dados: acoplamento perfeito com sistemas SCADA/MES/ERP/QMS

O design não só abrevia os ciclos de treinamento, mas também reduz os erros humanos de forma mais eficaz, permitindo que usuários não profissionais comecem rapidamente.

O FT230 é um analisador XRF multifuncional que pode ser usado em uma ampla variedade de cenários de aplicação na indústria de fabricação eletrônica e tratamento de superfícies de metais. O instrumento é excelente para medir com precisão os revestimentos de ouro, níquel e cobre em placas de circuito impresso (PCB), garantindo um desempenho confiável dos componentes eletrônicos.

No teste de revestimento de conectores, ele pode verificar com precisão a espessura e a composição de revestimentos como estanho, prata e níquel, parâmetros essenciais para a condutividade e resistência à corrosão. Para aplicações de galvanoplastia, o FT230 garante a uniformidade do deposito de metal em substratos não condutores, apoiando o controle de qualidade de revestimentos decorativos e funcionais. Além disso, o instrumento é igualmente adequado para tarefas gerais de tratamento de superfícies metálicas, permitindo a análise precisa de revestimentos complexos de camadas múltiplas e componentes de ligas.

Em todos os cenários de aplicação, o detector de deriva de silício (SDD) do FT230 fornece resultados rápidos, precisos e reprodutíveis, ajudando os fabricantes a cumprir continuamente os rigorosos padrões de qualidade e requisitos regulamentares.

A Hitachi tem uma profunda herança no campo da análise de revestimentos XRF, com uma acumulação tecnológica que remonta ao final da década de 1970. Como resultado de uma colaboração global em pesquisa e desenvolvimento, o FT230 aproveita um amplo feedback dos clientes para entender os desafios reais dos usuários de XRF e oferecer soluções inovadoras e práticas.

No ambiente de fabricação acelerado de hoje, precisão e eficiência são a linha de fundo incontestável. Se você está revestendo conectores para smartphones ou revestendo revestimentos resistentes à corrosão para componentes aeroespaciais, a capacidade de medir com precisão a espessura e a composição do revestimento é essencial.

O detector de deriva de silício é a chave para essa precisão. O Hitachi FT230 oferece uma solução completa que combina tecnologia de detecção de ponta, software personalizado e funcionalidades de automação.

Se você está empenhado em melhorar o nível de controle de qualidade na fabricação de eletrônica ou no tratamento de superfícies metálicas, especialmente no níquel químico, o FT230 não é apenas uma ferramenta de teste, mas também um instrumento para construir uma vantagem competitiva.