1. Preface:

A fotografia é um processo-chave na fabricação de circuitos integrados (IC), representando 40% do processo de fabricação de chips.

50% do tempo. No processo de fotogravura, não só é necessária uma máquina de fotogravura, mas também um material-chave - cola fotogravura. A fotogravura é um dos materiais mais críticos para a indústria de semicondutores e, durante todo o processo de fabricação de circuitos integrados, o processo de fotogravura representa cerca de 35% de todo o custo de fabricação de chips e é o processo mais central na fabricação de semicondutores.

A fotogravura é uma mistura complexa composta principalmente de solventes orgânicos, resinas poliméricas, agentes fotoácidos (PAG) e auxiliares. Entre eles, o ácido fotográfico é o componente chave da fotogravura e desempenha um papel decisivo na sensibilidade e resolução da fotogravura. A pureza e o controle de impurezas dos agentes fotoácidos têm um impacto importante na eficiência da fotogravura e de todo o produto semicondutor. Ácido óptico é comumente composto pela parte catiônica do trifenil enxofre e a parte aniônica da raiz do polifluorosulfonato, enquanto a parte aniônica não possui absorção ultravioleta, o detector de névoa eletrônica (CAD) não depende do composto com atividade óptica, que pode ser o detector ideal para controlar a qualidade do ácido óptico.

Esta aplicação explora a viabilidade do CAD para o controle de qualidade de agentes fotoácidos, usando a raiz do trifluorobutil sulfato como exemplo.

O detector de aerossol carregado (CAD) é um novo tipo de detector universal desenvolvido nos últimos anos, a sua detecção não tem nada a ver com a estrutura molecular da substância em teste e a substância em teste não precisa ser ionizada, desde que a substância em teste seja um composto semi-volátil ou não volátil pode ser usada para a detecção CAD. Ao mesmo tempo,

O CAD é um tipo de detector sensível à qualidade, o tamanho da resposta da substância medida é determinado pela qualidade absoluta da amostra testada, desde que a qualidade absoluta da amostra testada seja consistente, o valor de resposta medido tende basicamente a ser o mesmo e pode obter limites de detecção mais baixos e maior sensibilidade.

O detector de névoa eletrônica (CAD) é um grande resultado tecnológico alcançado pela equipe de pesquisa e desenvolvimento de instrumentos da Ingmai após anos de investigação intensa e repetidas experiências. Este detector usa tecnologia avançada de eletricidade e nebulização para realizar uma alta sensibilidade e alta precisão em amostras em traços.

Instrumentos e materiais:

Instrumento: Cromatográfico Liquido Agilent1200 + Detector CAD (Instrumento Ingmai, Modelo: CADetector a1)

Reagentes: Água pura (água destilada Watson), acetonitril (cromatografia pura), ácido fórico (análise pura) Amostras: sal de trifenilo trifluorobutil sulfato.

3) Métodos e resultados:

3.1 Condições cromatográficas:

Coluna cromatográfica: InfinityLab Poroshell 120 EC-C18 Temperatura da coluna: 55 ° C Velocidade de fluxo: 0,4 mL / min Volume de amostra: 5 μL

Fase de fluxo A: 0,2% solução de ácido fórico em água Fase de fluxo B: nitrilo acetico

Limpeza de condições de gradiente

Condições CAD:

Modelo do instrumento: INGMAI Instruments CADetector a1 Temperatura do tubo de deriva: 40 ° C Fluxo de ar de nebulização: 3L / min Corrente de polarização: 1μA Fluxo de ar de polarização: 1L / min

3.2 Preparação da amostra:

Diluente: metanol, metanol-água (1: 1) para preparar a solução salina de trifluorobutil sulfato de trifenilcetano 2000 µg / mL, dissolvido em solução de metanol puro. Use a solução metanol-água (1: 1) para diluir gradualmente a solução mãe, preparando-a em concentrações de 1, 2, 5, 10,

Soluções de série de 100 e 1000 µg/mL.

3.3 Resultados do experimento:

3.3.1 Aplicabilidade do método

Sob as condições deste método, o tempo de retenção de íons yin e yang é adequado, a separação, a forma de pico e a resposta do pico são boas

3.2 Sensibilidade do método

1 µg/mL de amostra e 5 µL de amostra; Boa resposta ao trifenil enxofre, com relação de sinal e ruído de até 1097,4 (método ASTM); Boa resposta à raiz do trifluorobutil sulfato, relação sinal-ruído 122,9 (método ASTM)

3.3 Repetibilidade

Repetibilidade contínua de 6 pinos com área de pico de trifenil-enxofre RSD% de 0,880; Área do pico da raiz do trifluorobutil sulfato

O RSD% foi de 1,222%, ambos menores de 2,0%, indicando que o método é bem repetitivo.

3.3.4 Lineares

Concentrações de 1 a 1000 µg/mL, com um coeficiente de associação de trifenil enxofre R de 0,99995; O coeficiente de correlação da raiz do trifluorobutil sulfato R é de 0,99976, bem linear e com uma ampla gama linear.

4 eConclusões experimentais:

Este artigo utiliza o método HPLC-CAD para analisar aniões em amostras de ácido fotográfico. O programa é altamente sensível, a separação iónica e a repetibilidade são boas, a gama linear é ampla e pode servir como um método de avaliação de agentes fotoácidos.

O método HPLC-CAD é simples de operar, exclusivo e altamente sensível e pode ser usado como um agente fotoácido para controle de qualidade e avaliação metodológica.