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Aplicações-chave do perfilador óptico KLA na medição da espessura da película ultrafina
Datas:2025-09-19Leia:0
  Contrômetro óptico KLANa medição da espessura da película ultrafina para a fabricação de células de perovskite a semicondutores, com sua alta precisão, medição sem contato e versatilidade, torna-se uma ferramenta-chave para as seguintes aplicações específicas:
Medição da espessura da película ultrafina em células solares de perovskite
Medição da camada TCO:
Importância: a camada TCO é um componente importante das células solares de perovskite e deve ter uma alta transmitência de luz, baixa resistência e alta estabilidade térmica em condições de boa condutividade elétrica.
Exemplo de medição: com o perfil óptico KLA, a espessura da película IZO em vidro pode ser medida com precisão, como amostras de 6,8 nm e 37,1 nm.
Medição da camada ETL:
Importância: A camada ETL desempenha um papel fundamental nas células solares de perovskite, como coletar eletrões, transmitir eletrões e bloquear buracos para reduzir a complexidade dos buracos eletrônicos. Sua uniformidade e suavidade afetam diretamente a qualidade da camada de perovskite.
Exemplo de medição: O perfilador óptico KLA é capaz de medir a espessura de filmes finas de SnO2 em vidro, como amostras de 10,2 nm, 14,3 nm e 19,6 nm, fornecendo um meio eficaz para monitorar a espessura e a uniformidade da camada ETL.
Medição da camada de eletrodos metálicos:
Importância: A camada de eletrodos metálicos é a camada superior das células solares de perovskite e o controle da espessura e uniformidade do processo é essencial para reduzir custos e melhorar o desempenho da bateria.
Exemplo de medição: com o perfilador óptico KLA, a espessura de uma película de alumínio metálico em vidro pode ser medida, como amostras de 15,0 nm, 28,0 nm, 49,8 nm e 71,1 nm.
Medição da espessura da película ultrafina na fabricação de semicondutores
Alta precisão e repetibilidade:
O perfilador óptico da KLA, como o Zeta-20, com ZDot ™ Tecnologia para alcançar a imagem 3D + varredura a cores verdadeiras por meio do método de confocação de matriz de pontos, a resolução do eixo Z atinge a escala sub-nanométrica. Essa alta precisão e repetibilidade atendem aos rigorosos requisitos da indústria de semicondutores para medição da espessura da membrana.
Medição sem contato:
Os contornos ópticos da KLA usam medições sem contato para evitar danos e erros que podem resultar de medições por contato. Isso é particularmente importante para estruturas de película fina frágeis na fabricação de semicondutores.
Multifuncionalidade:
O perfilador óptico da KLA não só tem a função de medição da espessura da membrana, mas também mede parâmetros como refração, reflexão e transmissibilidade para atender a diversas necessidades de medição. Por exemplo, o profilômetro óptico Zeta-20 suporta medições em escalões de nanoescala a milímetro e pode desenhar uma distribuição de espessura de película fina em amostras para determinar a uniformidade da amostra.
Fácil de operar e manter:
  Contrômetro óptico da KLAGeralmente tem uma interface de usuário amigável e funções de medição automatizadas para fácil operação e manutenção. Isso ajuda a reduzir a dificuldade de operação e melhorar a eficiência da medição.