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Óxido de alumínio transparente em máquinas de revestimento de evaporação enrolada a vácuo (O?A deposição de película fina precisa resolver problemas centrais como evaporação a alta temperatura, controle da reação oxidativa e uniformidade de enrolamento. Aqui estão os programas específicos de implementação e os principais pontos técnicos:

1. Projeto de solução de processo

(1)Escolha de fonte de evaporação

Método de evaporação

Análise de Aplicação

Programa recomendado

O feixe de eletrões evapora

Materiais evaporáveis de alto ponto de fusão (O?Ponto de fusão2050℃), mas facilmente produzir pulverização

Auxiliar a instalação de feixes de íons

Resistência a evaporar

Custo baixo, mas difícil de alcançarO?Temperatura de evaporação (necessária)>1800℃)

Não recomendado

Pulverização magnetrônica

Apesar de não ter revestimento evaporativo, é compatível com o sistema de enrolamento (o layout do alvo precisa ser modificado)

Alternativas

Escolha final:
Evaporação por feixe de eletrões+Deposição auxiliar de plasma (PARevaporando o alumínio ao mesmo tempo que entra no oxigênio, excitado pelo plasma (RF 13,56 MHzPromover a produção de óxido de alumínio.

(2)Configuração do sistema de revestimento

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2. Otimização dos principais parâmetros de processo

(1)Controle de evaporação

Taxa de evaporação de alumínio:0,5-2 nm/s(através da corrente eletrônica6-10kV / 100-300mAregulação)

Pressão parcial de oxigênio:2×10? 2 - 5×10? 2 Pa(O excesso de alta causa uma diminuição da taxa, o excesso de baixa oxidação é insuficiente)

Temperatura do substrato:80-150℃ (é necessário um polímero flexível)<120℃)

(2)Auxiliar Plasma

parâmetro

Valores típicos

Mecanismo de ação

RFPotência

100-300W

Espécies de oxigênio ativo gerado por oxigênio ionizado

Pressão parcial

- 50Vpara- 100V

Aumentar a densidade da membrana

Espaço do plasma

50-100 milímetros

Equilibrar uniformidade e eficiência de ativação

(3)Parâmetros do sistema de enrolamento

Velocidade:0,1-1 m/min(Espessura correspondente50-500nm)

Controle da tensão:10-20N(Evitar deformação do material)

Temperatura do rolo de refrigeração:15-25℃ (para evitar a acumulação de calor)

3. Regulação do desempenho da camada de membrana

(1)Otimização de desempenho óptico

Controle da taxa de refração:1.62-1.67(ajustado pela proporção de oxigênio-alumínio)

Método: Monitoramento óptico on-line (550nmTransmissão local>85%)

Coeficiente de extinção:<0.001(Evitar resíduos metálicos de alumínio)

(2)Melhoria das propriedades mecânicas

Dureza:> 8 GPa(Realizado por deposição auxiliar de feixe de íons)

Aderência: PassadoArpré-tratamento de plasma (50W, anos 60(FaçaPETCapacidade de superfície>50mN/m

(3)Melhor desempenho de bloqueio

Taxa de vapor de água (WVTR):<10? 3 g/m2/dia(Precisa de espessura> 100 nmsem agulhas)

Método de teste: cálcio (85℃/ 85% RH)

4. Casos de aplicação típicos

(1)Embalagem eletrônica flexível

Necessidades: emPETSubstrato (espessura)125 μm(Revestimento superior)300 nm de Al? - O quê?Camada de barreira

Processo:

Vaporação de alumínio de feixe de eletrônicos (taxa1.2nm / s)

Fluxo de oxigênio20sccm,RFPotência200 W

Velocidade do rolo0,3 m / minTensão.15 N

Resultado:

Transmissão da luz visível88%

WVTR 5×10?? g/m2/dia

(2)Placa traseira fotovoltaica

Desafio: evitar rachaduras na membrana durante o enrolamento

Solução:

Deposição em segmentos (por ciclo de revestimento)50 nmarrefecimento intervalado10 anos)

AdicionarO SiO?Camada de transição (espessura)10nmRedução do estresse interno

5. Perguntas frequentes e respostas

problema

Análise das causas

solução

Membrana cinzenta/opaco

Alumínio insuficientemente oxidado

Aumentar a pressão de oxigênio ouRFPotência

Espessura desigual da membrana da borda do rolo

Distribuição desigual do plasma

Aumentar a varredura linear da fonte de plasma

Descida da camada de membrana

Poluição superficial ou estresse excessivo

Fortalecer a pré-limpeza e reduzir a taxa de sedimentação

6. Direção de atualização tecnológica

(1)Sinergia de múltiplas fontes de evaporação

Al + MgEvaporação: PreparaçãoMgDopagemO?Melhorar o desempenho dielétrico

Tecnologia de barreira dinâmica: obtenção de gradientes de espessura de membrana horizontal (para filtros ópticos)

(2)Controle inteligente

Otimização de aprendizado de máquina:

Entrada: taxa de evaporação, pressão parcial de oxigênio, transmissão de dados em tempo real

Saída: Ajuste automáticoRFPoder.PIDparâmetro

Sistemas Gêmeos Digitais:ANSYSSimulação do calor durante o enrolamento-Efeito de acoplamento de força

(3)Processo ambiental

Sistema de reciclagem de alumínio: placa de condensação coleta alumínio não depositado, taxa de reciclagem>90%

Projeto de baixo consumo de energia: Plasma de pulso30%(Redução)40%Consumo de energia

Conclusão:

A obtenção de filmes de óxido de alumínio transparentes de alta qualidade em máquinas de revestimento por evaporação enroladas a vácuo requer o controle da adequação da reação oxidativa e da estabilidade dinâmica do enrolamento. Por meio da evaporação de feixes de eletrões em combinação com o plasma, é possível obter filmes finas com alta transmitência de luz e excelentes propriedades de bloqueio em um substrato flexível. As orientações futuras incluem:
① Aumento da uniformidade de área (largura)> 2m);
② Deposição contínua ultrafina (< 10nmsem agulha);
③ com outras funções (comoO SiO?eITOdepoimento composto on-line.