Revestimento de pulverização de plasma de semicondutoresO método de pulverização secundária é amplamente utilizado na preparação de amostras SEM ou em testes de revestimento metálico. Usando o processo de pulverização de plasma a baixa temperatura, não há alta temperatura no processo de revestimento, não é fácil gerar danos térmicos. Este pequeno pulverizador de plasma usa o sistema de controle PLC, todo o funcionamento de tela táctil, fácil de aprender a usar. Este modelo de instrumento também está equipado com uma mesa de amostragem rotativa para melhorar eficazmente a uniformidade do revestimento. (Este dispositivo é equipado com uma mesa de amostras de aquecimento rotativo, que pode melhorar a uniformidade do revestimento e a adesão do filme fino) Este pequeno pulverizador de plasma usa um sistema de controle PLC, todo o funcionamento de tela táctil, fácil de aprender a usar.
Princípio de funcionamento:
excitação do plasma:
A entrada em gases inertes como argônio (Ar) é ionizada sob a ação de campos elétricos para formar um plasma de alta densidade.
Bombardeio iônico:
Feixes de íons de alta energia (energia > 1keV) bombardeiam alvos metálicos ou compostos, permitindo que os átomos do alvo escapassem para formar um fluxo molecular direcionado.
Deposição de filme:
Os átomos de pulverização são depositados em uma membrana na superfície do substrato e a espessura é monitorada em tempo real por meio de vibrações de quartzo.
Limpeza periódica:
Limpeza da câmara de vácuo: após a deposição, a mistura de hidrogênio e nitrogênio a 5% é usada para limpar o plasma residual e a folha de alumínio da parede interna é substituída a cada 10 ciclos.
Manutenção do alvo: alvo metálico polir a superfície a cada 50 horas, alvo de óxido detecta regularmente rachaduras.
Manutenção do sistema principal:
Sistema de vácuo:
O óleo da bomba molecular é substituído a cada 500 horas e a bomba mecânica limpa o filtro trimestralmente.
O anel de vedação é verificado mensalmente e o anel O é substituído a cada semestre.
Sistema elétrico:
A camada de isolamento do cabo de alta tensão é testada semanalmente para resistência à tensão (> 10kV).
O radiador de energia de plasma é removido a cada duas semanas para evitar descargas de arco.
Resolução de emergência:
O arco de pulverização é instável: desligue imediatamente a energia e pegue fita isolante para isolar as peças metálicas expostas.
O vácuo cai muito rápido: verifique o anel de vedação da flange e detecte a fuga de hélio para localizar o ponto de fuga.
Desuniformidade do filme: Calibrar a velocidade de rotação/rotação do suporte.