HWN-L sistema de escrita direta nano-laser

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O sistema de escrita direta a laser nano HWN-L é um sistema de escrita direta a laser de grande área, alta precisão, gravurável e processamento de limite de ultradifração, que pode ser usado para o processamento de microns de grande área de tamanho de wafer, adequado para uma variedade de estruturas e dispositivos de microns, produção de dispositivos de microns em pequenos lotes, etc. A série inclui modelos diferentes, como L50 e L100, com características poderosas, simples de manutenção, alta resolução de processamento, suporte a vários padrões de gravação e suporte a vários materiais receptores. O sistema conserva espaço físico e recursos de hardware suficientes no início do projeto para atender às necessidades de atualizações de funções subsequentes e substituição, dando ao produto um ciclo de vida mais longo.

Detalhes do produto

HWN-L sistema de escrita direta nano-laserEspecialização em pesquisa e desenvolvimento de tamanhos de wafer e produção em pequenos lotes

HWN-L sistema de escrita direta nano-laserÉ um sistema de escrita direta a laser de grande área, alta precisão, gravurável e processamento de limite de ultradifração, que pode ser usado para processamento de microns de grande área de tamanho de wafer, adequado para uma variedade de estruturas e dispositivos de microns, produção de dispositivos de microns em pequenos lotes, etc. A série inclui modelos diferentes, como L50 e L100, com características poderosas, simples de manutenção, alta resolução de processamento, suporte a vários padrões de gravação e suporte a vários materiais receptores. Além disso, o sistema manteve espaço físico e recursos de hardware suficientes no início do projeto para atender às necessidades de atualizações de funções subsequentes, permitindo que o produto tenha um ciclo de vida mais longo.

A empresa inovadora de alta tecnologia de Suzhou Huavina Nanotechnology Co., Ltd. foi registrada em 2011, principalmente envolvida em pesquisa e desenvolvimento e industrialização de novas tecnologias de nanofotografia e nanofotografia sem máscara.

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