Microscópio Helios 5 Hydra DualBeam

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O microscópio Helios 5 Hydra DualBeam possui vários tipos de íons, com foco de plasma para microscópio eletrônico de varredura de feixe de íons para preparação de amostras 3D EM e TEM.

Detalhes do produto

Microscópio Helios 5 Hydra DualBeamInspeção por microscópio elétrico de varredura de feixe de íons focado em plasma com vários tipos de íons para preparação de amostras EM e TEM 3D

O Thermo Scientific Helios 5 Hydra DualBeam (PFIB-SEM) oferece quatro tipos diferentes de íons como feixe principal, permitindo que você escolha os íons que fornecem os melhores resultados para amostras e casos de uso, como preparação de amostras com microscópio de eletrôns de transmissão (STEM) e microscópio de eletrôns de transmissão (TEM) e caracterização de materiais em 3D.

Você pode alternar facilmente entre argão, nitrogênio, oxigênio e xenão em menos de dez minutos sem sacrificar o desempenho. Essa flexibilidade expande significativamente as áreas de aplicação potenciais do PFIB e permite otimizar os casos de uso existentes estudando as interações íon-amostra.

O Helios 5 Hydra DualBeam combina a nova e inovadora coluna FIB de tipo plasma poliiónico (PFIB) com a coluna cromatográfica monocromática Thermo Scientific Elstar UC+ SEM para oferecer desempenho avançado de feixe de íons e elétrons focados. O software intuitivo e o nível de automação e facilidade de uso permitem observar e analisar informações de volume subsuperficial relevantes.

Microscópio Helios 5 Hydra DualBeamCaracterísticas principais

Amplo espaço de aplicação

As fontes de íons estão disponíveis em quatro tipos de íons rápidos e trocáveis, com a maior variedade de aplicações: Xe, Ar, O e N.

Automação avançada

Automate vários pontos da maneira mais rápida e fácil com o software opcional AutoTEM 5LocalizaçãoeNão localPreparação de amostras TEM e corte cruzado

Curto ciclo de implementação em nanoescala

Com a tecnologia SmartAlign e FLASH, os usuários de qualquer nível de experiência podem obter informações em nanoescala no menor tempo possível

Deposição e gravação induzidas por feixes de elétrons e íons

Capacidade de sedimentação e gravação induzida por feixes de elétrons e íons no sistema DualBeam com o sistema opcional de transporte de gás Thermo Scientific MultiChem ou GIS.

Imagem sem falsificação

Gestão integrada de limpeza de amostras e modos de imagem dedicados, como os modos SmartScan e DCFI

Alta potência e alta qualidade

Utilize a próxima geração de colunas de cromatografia FIB de plasma de 2,5 μA para caracterização 3D, corte cruzado e microprocessamento de alto fluxo, alta qualidade e estatisticamente relevantes.

Preparação de amostras de alta qualidade

Graças à nova coluna cromatográfica PFIB, com um polimento final de 500 V e excelente desempenho em todas as condições operacionais, amostras TEM e APT de alta qualidade sem gálio podem ser preparadas com xenão, argão ou oxigênio.

Informação completa da amostra

As informações mais completas sobre amostras claras, precisas e sem contraste de carga são obtidas com até seis sondas integradas dentro da coluna cromatográfica e sob a lente

Navegação de amostras precisa

A alta estabilidade e precisão do suporte de 150 mm ou a flexibilidade do suporte de 110 mm, juntamente com a câmera Thermo Scientific Nav-Cam na câmara opcional, permitem a personalização de acordo com as necessidades específicas da aplicação.

Dados de desempenho

	Helios 5 Hydra CX DualBeam	Helios 5 Hydra UX DualBeam
eletrônicaResolução do feixe	No melhor WD: 1 kV 时 0.7 nm 500 V (DCI) 时 1.0 nm No ponto de intersecção: 15 kV 时 0.6 nm 1 kV 时 1.2 nm
Espaço de parâmetros do feixe de eletrões	Gama de correntes de feixe de eletrões: de 0,8 pA a 100 nA em todas as tensões de aceleração Faixa de tensão de aceleração: 350 V – 30 kV Faixa de energia de pouso: 20* eV – 30 keV Largura máxima de campo horizontal: 4 mm WD 2,3 mm
Sistema óptico iônico	Coluna cromatográfica PFIB de alto desempenho com fonte de plasma acoplado por indução (ICP), suporte a quatro tipos de íons e capacidade de comutação rápida Tipos de íons (feixe primário): Xe, Ar, O, N Tempo de troca < 10 minutos, somente operação de software Faixa de corrente de feixe de íons: 1,5 pA a 2,5 μA Faixa de tensão de aceleração: 500V – 30 kV Largura máxima de campo horizontal: 0,9 mm no ponto de junção do feixe de plasma Resolução do feixe de iões de xenão no ponto de duplicação < 20 nm com métodos estatísticos a 30 kV Método de borda seletiva < 10 nm a 30 kV
Câmara	Pontos de convergência de feixes E e I na análise de WD (SEM de 4 mm) Portas: 21 Largura interna: 379 mm Limpador de plasma integrado
Sonda	Sondas SE/BSE no espelho de coluna cromatográfica Elstar (TLD-SE, TLD-BSE) Sonda SE/BSE (ICD) na coluna cromatográfica Elstar* Detectores Everhart-Thornley SE (ETD) Câmera IR para ver amostras/colunas cromatográficas Sondas de elétrons e íons (ICE) em câmara de alto desempenho para íons secundários (SI) e elétrons secundários (SE) Nav-Cam câmera de navegação amostra na câmara* Sonda elétrica de dispersão inversa de estado sólido (DBS) escalável, de baixa tensão, de alto contraste* Medição de corrente de feixe de plasma integrado
Carregamento e amostras	Carregador elétrico flexível de cinco eixos: Gama XY: 110 mm Faixa Z: 65 mm Rotação: 360° (ilimitado) Faixa de inclinação: -38° a +90° Repetibilidade XY: 3 μm Altura máxima da amostra: 85 mm com o ponto de confêntrico Peso máximo da amostra em inclinação de 0°: 5 kg (incluindo o suporte para amostras) Tamanho máximo da amostra: 110 mm em rotação (também pode ser uma amostra maior, mas com rotação limitada) Rotação e inclinação do centro de cálculo	Mesa de carregamento elétrica de cinco eixos de alta precisão com eixo XYR com accionamento piezoelétrico Gama XY: 150 mm Faixa Z: 10 mm Rotação: 360° (ilimitado) Faixa de inclinação: -38° a +60° Repetibilidade XY: 1 μm Altura máxima da amostra: 55 mm de distância com o ponto de confêntrico Peso máximo da amostra em inclinação de 0°: 500 g (incluindo o rack para amostras) Tamanho máximo da amostra: 150 mm em rotação (também pode ser uma amostra maior, mas com rotação limitada) Rotação e inclinação do centro de cálculo

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