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Xangai Spectrum Gas Tecnologia Co., Ltd.
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Gás alto/ultrapuro

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A linha exclusiva de gases altamente puros/ultrapuros para aplicações de laboratório e análise atende às necessidades de análise de laboratório e controle de processo ao controlar rigorosamente o conteúdo de impurezas críticas para obter resultados analíticos precisos e confiáveis.
Detalhes do produto

Gás alto/ultrapuroA linha exclusiva de produtos para aplicações de laboratório e análise atende às necessidades de análise de laboratório e controle de processo através do controle rigoroso do conteúdo de impurezas críticas para obter resultados analíticos precisos e confiáveis.

Gases inorgânicos de alta pureza Nitrogeno, hidrogênio, oxigênio, argônio, hélio, dióxido de carbono, monóxido de carbono, monóxido de nitrogênio, dióxido de nitrogênio, etc.

Gases orgânicos de alta pureza

Metano, etano, etileno, propano, propileno, buteno, isobuteno, isobuteno, anti-buteno, buteno, isobuteno, acetileno, butileno, propileno, vinilacetileno, etc.

Gases raros

Radônio, criptônio, xenônio e outros Especificações do produto Pureza ≥5N; pode ser agrupado de acordo com os requisitos do cliente.

Gases especiais

Gases eletrônicos

Mistura de gás de silânio, mistura de gás de fosfato, mistura de gás de borowano, mistura de gás de arsênio, mistura de gás de selêneto de hidrogênio, gás padrão de eletrônicos: etilsilânio em nitrogênio, germano em nitrogênio

Gases de iluminação

Mistura de argônio e criptônio, mistura de argônio, mistura de compostos halogênicos, etc.

mistura de gases laser

Gás Roffin, mistura de hélio + nitrogênio + monóxido de carbono, mistura de hélio + nitrogênio + dióxido de carbono, etc.

Gases da indústria siderúrgica

Mistura de proteção de solda, dióxido de carbono no argão, hélio + dióxido de carbono no argão, etc.

Gases de esterilização de óxido de etileno

Mistura de gás de epóxido de etano + dióxido de carbono (o CO2 também pode ser substituído por F-12 e F-11)

Gases de detecção de vácuo

Gás alto/ultrapurohélio no ar e hélio no nitrogênio.