Forno de sinterização horizontal de grande tamanho

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Visão geral

Utilização do equipamento: sinterização a pressão do substrato de cerâmica de nitreto de silício. Características do equipamento: (1) estrutura horizontal, composta por forno, aquecimento, vácuo, sistema de controle atmosférico, etc.; (2) o material da carcaça do forno usa aço de recipiente de pressão 16MnR; (3) O corpo de aquecimento usa grafite estático, a camada de isolamento usa feltro de grafite, composto de fibra de carbono profunda, etc.; (4) equipado com ar frio rápido, velocidade de resfriamento curta e alta eficiência de trabalho. $ r $ n padrão principal aplicável: recipiente de pressão: GB / T 150.1 ~ 150.4-2024; Tecnologia de vácuo - forno de sinterização a vácuo JB/T 10550-2006;

Detalhes do produto

Usado principalmente para a preparação de materiais de alta performance como materiais metálicos e cerâmicos, materiais monocristalinos de alta pureza química, materiais de nanofase, materiais funcionais de gradiente e outros em condições de alta temperatura e alta pressão. Este dispositivo também tem função de desgordura e está equipado com um dispositivo de queima de gases de escape.

No estado de alta pressão do gás inerte carregável após a bomba de vácuo, o uso do princípio de aquecimento radiacional de aquecimento de resistência de grafito é conduzido pela radiação térmica para a peça de trabalho (crucel), para completar a função de sinterização em alta temperatura e alta pressão.

Principais critérios aplicáveis:

Contenedores de pressão:GB / T 150.1 ~ 150.4-2024;Tecnologia de vácuo—Forno de sinterização a vácuoJB/ T 10550-2006;Propriedades mecânicas de fixação: parafusos, parafusos e pernos de aço inoxidávelGB / T 3098.6-2014;Condições básicas do dispositivo térmicoGB / T10067.4-2005

Parâmetros principais:

O corpo do forno é uma estrutura de dupla camada, passagem de água intermediária, modo de instalação horizontal, abertura da porta frontal para carregar materiais fáceis, fechamento da porta do forno e do corpo do forno usando o método de anel dental;

Temperatura máxima projetada2000℃, temperatura máxima de funcionamento1900℃； Taxa de aquecimento aproximada1200Abaixo de ℃10℃por min，1200℃ acima5-8℃por minuto;

Pressão Inflável 9.9MpaPressão de trabalho: 9.0Mpa;

Software de controle parado PLC+tela táctil) para o núcleo, controle de automação, interface chinesa;

Tamanho da área de carregamento (Largura e altura): 400 × 250 × 250 milímetros/500 × 400 × 400 milímetros/1250 × 500 × 500 milímetros/475 × 375 × 375mm;

Personalizações não padrão podem ser aceitas conforme necessário.

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