Monitor de partículas de poeira ambiental em tempo real (PFS)

Fastmicro Monitor de partículas de poeira ambiental em tempo real (PFS)

FastmicroMonitor de partículas de poeira ambiental em tempo real (PFS)Desenvolvido especificamente para medição da taxa de deposição de partículas em sala limpa, suporta a coleta de dados em intervalos de segundos para medir com precisão partículas acima de 0,5 um. A combinação de um sistema de software intuitivo e fácil de usar ajuda os clientes a realizar uma atualização revolucionária do simples monitoramento do ar para o monitoramento da limpeza da superfície, fornecendo uma base científica para a otimização do processo e a melhoria contínua da limpeza.

Características do produto:

• Saída de dados e visualização: conforme a norma ISO 14644-17

• Detecção de alto fluxo: pode detectar partículas de até 0,5 um

• Rápido: 10 segundos para a inspeção de área de 2 polegadas

• Quantificação: validação e monitoramento para ambientes de produção e pesquisa e desenvolvimento

Medição da consistência no processo de produção

Rápido:Monitoramento contínuo de segundo nível

Quantificação:Validação e monitoramento para ambientes de produção e I+D

Fácil de operar:Fácil treinamento do operador

Precisão:Medições de alta resolução (quantidade, linha de tempo, localização, tamanho)

Consistência: Resultados de medição objetivos repetidos

Alto rendimento:Análise em tempo real

Monitoramento da taxa de deposição de partículas (DPRL)

Monitor de partículas de poeira ambiental em tempo real (PFS) Fastmicro com trabalho compactoProjeto industrial para monitoramento de partículas de acordo com as normas ISO 14644-9 e ISO 14644-17Velocidade de deposição de partículas (DPRL). O dispositivo permite que os engenheiros de processo / qualidade possam trabalhar em tempo realMonitore a deposição de partículas em áreas críticas do ambiente de sala limpa.

Monitoramento contínuo em áreas-chave

Diferentemente do tradicional monitoramento de partículas em suspensão de ar somente, o sistema podeControle de poluição de partículas e verificação de limpeza da superfície para monitoramento contínuo.As partículas submicrônicas nem sempre estão suspensas no ar e podem se depositar no ar.A superfície da chave afeta a limpeza técnica e a qualidade do produto.

O instrumento usa um wafer de 2 polegadas para coletar partículas de poeira no ambiente eMonitoramento contínuo da deposição de partículas na superfície do wafer a cerca de 10 segundos.Detecta tamanhos de partículas ≥0,5 (certificado pelo NIST) e quantifica com precisãotaxa de sedimentação.A interface do software é simples e intuitiva para gerar relatórios com um clique.

O Fastmicro PFSÉ um instrumento de alta precisão para a detecção in situ de partículas que ajuda os engenheiros aO desafio do controle de processos limpos.

Em combinação com o eletroscópio de varredura Phenom XL,Caracterização de componentes e análise de origem de partículas mais conveniente e eficiente.