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Gaosmo (Chengdu) International Trade Co., Ltd
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Espectrómetro de espessura de membrana de wafer interferente

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Visão geral

Espectrometro de espessura de membrana de wafer com interferência espectral $r$n Detecção instantânea de espessura de membrana de substrato WAFER no processo de moagem Alterações de espessura de substrato de vidro no processo de diluição (em ambientes fortemente ácidos) Características do produto Detecção óptica de espessura de membrana sem contato e não destrutiva Alta reprodutividade de detecção com interferência espectral

Detalhes do produto

Espectrómetro de espessura de membrana de wafer interferente

Espectrómetro de espessura de membrana de wafer interferente


Detecção instantânea da espessura do substrato WAFER no processo de moagem Alterações da espessura do substrato de vidro no processo de diluição (em ambientes fortemente ácidos) Características do produto Detecção óptica sem contato e não destrutiva da espessura da membrana Alta reprodutividade da detecção com interferência espectral


Características do produto

● Detecção óptica de espessura de membrana sem contato e não destrutiva
● Alta reprodutividade de detecção com interferência espectral
• Detecção instantânea de alta velocidade
● Detecção através de camadas intermediárias como membranas protetoras, janelas de visão
Compatível com longas distâncias de trabalho e fácil instalação em linhas de produção ou equipamentos
• Pequeno tamanho, poupança de espaço e fácil instalação
• Responde às necessidades de acionamento de sinal externo para detecção on-line
● Adote algoritmos de análise exclusivos adequados para a detecção de espessura da membrana.
● Cartografia automática da distribuição da espessura da membrana (item opcional)


Especificação Estilo

modelo SF-3/200
SF-3/300
SF-3/800
SF-3/1300
dimensão 123 (L) x 224 (D) x 128 (H) milímetros
Gama de medição da espessura da placa de silício 6 ~ 400 μm
10 ~ 775 μm
20 ~ 1000μm
50 ~ 1300 μm
Espessura da resina 10 ~ 1000μm
20 ~ 1500 μm
40 ~ 2000μm
100 ~ 2600 μm
Ciclo mínimo de amostragem 5kHz (200μsec)
Precisão de repetição Menos de 0,01% (*1)
Medição do diâmetro da mancha φ20 μm ou mais (*2)
Medição da distância 50 、80、120、150 、200mm
Fonte de Luz
Fonte de luz semicondutora (laser Classe 3B)
Método de análise Análise FFT
Interface
LAN, portas de E/S
fonte de alimentação
DC24V (A fonte de alimentação AC deve ser comprada separadamente)
Selecionar acessórios
Variedade de caixas de teste de distância, unidade de alimentação (para CA), referência AL, teste óptico, limpador de fibra óptica

*1 : desvio padrão relativo da amostra padrão inicial quando medida em cerca de 1.000 μm de espaço de ar (n = 20)

*2 : Valor projetado na especificação da sonda WD80 mm