No processo de fabricação de semicondutores, a gravação é uma parte-chave do processo, e sua precisão determina diretamente as vantagens e desvantagens do desempenho do chip. Os métodos de medição tradicionais tendem a ser difíceis em face de perfis de gravação complexos, e o surgimento do perfilador óptico 3D Sensofar S neox trouxe uma solução inovadora para esse desafio.

O processo de gravura elimina seletivamente o material do chip para moldar as características do circuito por gravura úmida ou seca. Neste processo, a uniformidade da profundidade de gravação e a precisão do ângulo da parede lateral se tornam parâmetros chave que afetam o desempenho do dispositivo. Especialmente à medida que o tamanho do dispositivo diminui, a precisão da medição é cada vez mais exigente.

O perfilador óptico 3D Sensofar S neox usa a tecnologia de medição de lente de interferência 50x para capturar com precisão as informações de perfil tridimensional do perfil gravado. Este método de medição sem contato e de alta resolução oferece aos fabricantes um meio eficaz de monitoramento de processo.

Com o software SensoPRO da First Jin, o sistema permite análises altamente automatizadas em nanoescala, melhorando significativamente a eficiência e a precisão da medição. Este avanço tecnológico permite que as características de gravação cumpram estritamente os requisitos de tolerância dimensional, fornecendo um suporte de dados confiável para a otimização do processo.

O perfilador óptico S neox integra quatro tecnologias de confocação, interferência, sobreposição AI multifocal e medição da espessura da membrana para formar uma solução de medição completa. Essa concepção de design multitecnológica permite-lhe lidar com uma variedade de cenários de medição complexos.

Tecnologia de FocoOferecer mais gaoA resolução horizontal atinge a resolução horizontal de 0,14 μm para atender aos requisitos exigentes de medição de tamanhos críticos.Tecnologia de interferênciaA medição de altura em resolução AE é possível, especialmente para a caracterização de superfícies lisas e contínuas.

A Sensofar foi profundamente otimizada em termos de experiência do usuário. O software SensoSCAN oferece uma interface de operação clara e intuitiva que permite ao usuário realizar medições automáticas com apenas um clique. O sistema é capaz de reconhecer inteligentemente as condições de iluminação e a faixa de medição, obtendo resultados de alta qualidade em segundos.

O suporte ao módulo de medição automática permite que os usuários realizem facilmente a programação personalizada para completar os objetivos de gerenciamento de qualidade e inspeção. Medidas totalmente automatizadas sem intervenção humana são realizadas com a função de reconhecimento automático de ponto de imagem, o que melhora significativamente a eficiência da detecção.

Esta tecnologia apresenta fortes vantagens em várias áreas:

Fabricação de microeletrônicaCapaz de medir rapidamente e sem danos o desvio inicial do nanosensor de pressão;

usinagem de precisãoÁrea para medir com precisão os parâmetros da borda de corte de ferramentas complexas;

Equipamento médicoA indústria apoia a análise da morfologia superficial de implantes dentários.

Sensofar sempre aderiu aos padrões de qualidade mais gao, todos os equipamentos wan cumprir totalmente o padrão ISO 25178. O sistema utiliza blocos padrão rastreáveis ​​para a correção, garantindo a precisão e confiabilidade dos dados de medição. Este rigoroso sistema de controle de qualidade fornece uma garantia de medição confiável para a pesquisa científica e a produção industrial.

À medida que a tecnologia de semicondutores continua a evoluir, as exigências de precisão de medição continuarão a aumentar. O perfilador óptico 3D Sensofar S neox estabelece novos padrões da indústria para medição de perfis gravados com inovações tecnológicas, ajudando a indústria de fabricação a avançar em direção a uma precisão e inteligência mais elevadas.

Este instrumento não só representa o nível mais alto da tecnologia de medição óptica atual, mas também estabelece uma base sólida para o desenvolvimento futuro da fabricação de micronanométricos. Seu excelente desempenho e desempenho confiável tornam-no ideal para instituições de pesquisa científica e controle de qualidade empresarial.