O TALD realiza uma reação química auto-limitada na superfície do substrato através da introdução alternada de dois ou mais gases precursores, depositando a película camada por camada. Cada ciclo completo de sedimentação consiste em quatro etapas:
Entrar no primeiro gás precursor: fazer com que ele ocorra adsorção química com a superfície da base, formando uma adsorção de camada única.
Limpeza de gás inerte: elimina o excesso de precursores e subprodutos para evitar reações de fase gaseosa.
Entrada no segundo precursor: Reagir com o primeiro precursor adsorvido para gerar uma película de camada única atômica.
Limpeza de gás inerte novamente: remova precursores e subprodutos não reagidos para preparar o próximo ciclo.
A camada atômica térmica é depositada através da introdução alternada de dois gases precursores (como o trimetilalumínio e o vapor de água), que ocorrem adsorções químicas e reações superficiais na superfície da base para formar uma camada atômica única. Os precursores não reagidos devem ser lavados com gases inertes (como nitrogênio) após cada reação para garantir que o processo de deposição seja auto-limitado e evite reações excessivas.
Limpeza da sala de reação e controle da poluição
Limpe imediatamente a câmara de reação após cada uso, limpe as paredes internas com um pano sem poeira e um agente de limpeza especial, e concentre-se na limpeza de áreas fáceis de acumulação como o bico, o substrato e outros, para evitar que os resíduos do precursor ou a deposição de partículas afetem o desempenho do filme.
Quando desativado a longo prazo, é necessário esvaziar o tubo e soprar com gás inerte para evitar que os resíduos corroam o tubo.
Foco de manutenção
Gestão do precursor: o corpo do precursor é fácil de hidrolizar / oxidar, necessita de armazenamento selado, substituição regular (para evitar a queda da pureza);
Limpeza da cavidade de reação: o precursor residual é fácil de formar sedimentos após a deposição e precisa ser limpo regularmente com plasma (por exemplo, O₂) ou líquido de limpeza química;
Detecção de vazamento de tubulação: garantir que a tubulação de gás não tenha vazamento, evitando que a reação de mistura de precursores cause bloqueio;
Manutenção do sistema de vácuo: substituição regular do óleo da bomba de vácuo, limpeza do regulador de vácuo para garantir a estabilidade do vácuo.