Equipamento de fotografia sem máscaraÉ um instrumento de teste de processo que projeta diretamente padrões de circuito para materiais sensíveis à luz através de sistemas ópticos de alta precisão, eliminando a fase de produção de versões de máscara necessária para gravuras fotográficas tradicionais. O dispositivo pode ser dividido em classes ópticas e partículas carregadas, incluindo tipos de tecnologia como escrita direta a laser e escrita direta de feixe de elétrons. Na fabricação de semicondutores, sua vantagem significativa é melhorar a eficiência da fotografia, reduzir os custos de produção e reduzir o ciclo de pesquisa e desenvolvimento, amplamente utilizado em biochips, sistemas micromecânicos e embalagens avançadas.
A fotogravura sem máscara é baseada na tecnologia de varredura do modulador de luz espacial ou no método de escrita direta do feixe de partículas carregadas, que converte o layout digital diretamente em gráficos físicos em cola fotogravura para alcançar a moldagem rápida sem máscara. Seus principais indicadores técnicos incluem largura mínima de linha, mudança automática de resolução e funções de litografia em escala de cinza.
Área de aplicação
Desenvolvimento de chips de microfluidos: aplicável à pesquisa em microfluidos, microeletrônica e outros campos.
Litografia de chip de potência: suporte para experimentos de circuito integrado de tubo de carbono.
Componentes ópticos 3D: tecnologia de fotografia em escala de cinza para o processamento estrutural tridimensional.
As principais funções do dispositivo Magic Nano UV-Smart sem máscara incluem:
Processamento de alta precisão: a tecnologia de microscópio digital (DMD) é usada para alcançar a precisão da largura da linha de 300 nm, o erro de junção é mínimo e as bordas estruturais são suaves.
Velocidade de escrita direta eficiente: 300 mm² por minuto, adequado para modelagem rápida e produção em pequenos lotes.
Controle totalmente automático: design integrado, fácil operação, suporte a substâncias de 12 polegadas, aplicável a áreas de microfluidos, semicondutores e outros.
Aplicações industriais: algoritmos de auto-desenvolvimento combinados com hardware de alto desempenho, com alta alinhamento e precisão de gravação para atender às necessidades de produção em massa.