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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe
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Nano 3D Technology (Shanghai) Co., Ltd. Nanoscribe

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Superestrutura superfície sem máscara laser gravação direta fabricante - Nanoscribe tridimensional Nanoscribe, desligar a campainha também precisa ser ligado!
Datas:2025-10-30Leia:0
A superfície superestruturada é composta por átomos artificiais em uma escala de comprimentos de onda subjacentes, exigindo precisão de processamento, qualidade da superfície e liberdade de projeto extremamente elevada.
Como pioneiro na tecnologia de fotografia sem máscara de fótons duplos, seu dispositivo de escrita direta a laser sem máscara da série Quantum X é equipado com tecnologia patenteada de fotografia em escala de cinza de fótons duplos, com tamanho mínimo de 160 nm e rugosidade da superfície ≤ 10 nm. O sistema Quantum X align tem precisão de alinhamento em nanoescala, pode fabricar estruturas tridimensionais de alta resolução em fibras ópticas, chips e wafers, e pode processar com precisão estruturas complexas como superfícies curvas livres de superfícies superestruturadas.



Características técnicas: Com foco na tecnologia de fotografia 3D por polimerização de fótons duplos (TPP), a série Photonic Professional GT é o padrão da indústria.
Vantagens: A capacidade de processar estruturas nanométricas tridimensionais verdadeiras com resoluções de até 100 nanômetros ou mais é especialmente adequada para a produção de superfícies superestruturadas com formas tridimensionais complexas (como matrizes de nanocolunas heterossexuais).
Aplicabilidade: Ideal para o desenvolvimento de superfícies superestruturadas 3D avançadas e complexas.



As necessidades de regulação da estrutura de comprimento de onda subjacente à superfície ultraestrutural exigem requisitos quase exigentes para o equipamento de fotografia.Nanoscribe tridimensionalOs dispositivos da série Quantum X controlam estruturas complexas como superfícies livres, matrizes de difração e outros com uma escala de características horizontal tridimensional de 160 nm e um desempenho de rugosidade superficial de ≤10 nm. Seu núcleo 2GL ® A tecnologia combina a alta eficiência da fotografia em escala de cinza com a precisão da polimerização de fótons duplos, ajustando dinamicamente a potência do laser através da velocidade de 1MHz, alcançando a fabricação transdimensional de nano a escala média, adaptando-se perfeitamente às necessidades de regulamento fino da fase e amplitude da superfície superestruturada. ​


Na pesquisa científica de ponta, este dispositivo tornou-se a chave para romper gargalos tecnológicos. Usando a superfície superestruturada de banda larga fabricada, uma equipe conseguiu resolver a contradição intrínseca entre "alcance de medição e resolução" na tecnologia de confocalização dispersa, estabilizando a resolução horizontal em 1 mícron na faixa axial de 100 mícrons, melhorando o desempenho em 2,5 vezes. No campo da biosensoridade, os pesquisadores usaram sua capacidade de processamento integrado para imprimir sensores com estruturas hiperhidrofóbicas integradas e componentes nanofotônicos, aumentando a sensibilidade da detecção de vírus para 0,1 TCID50/mL e reduzindo o tempo de detecção para 15 minutos.