A indústria de semicondutores exige rigorosamente a qualidade da água, a água ultrapura é o principal consumo de produção e sua qualidade afeta diretamente a boa qualidade do chip. A água ultrapura semicondutora precisa atender aos indicadores multidimensionais: a resistência deve ser superior a 18,2 MΩ.cm (25 ° C) para garantir que o conteúdo de íons seja extremamente baixo; O TOC (carbono orgânico total) é controlado abaixo de 0,5 ppb para evitar afetar a precisão da fotografia; Não exceder 100 partículas por litro de partículas maiores que 0,05 micrômetros para evitar defeitos de fotografia; O oxigênio dissolvido é inferior a 1 ppb, inibindo a proliferação das bactérias e a formação de camadas de oxidação.
Aplicações de água ultra-pura em todo o processo de produção de semicondutores: a fase de preparação do wafer é usada para limpeza e desmistura, para garantir a cristalização da superfície; Limpe o modelo e o wafer durante o processo de fotogravura para garantir a precisão do padrão; Gravação e polimento mecânico desempenham o papel de refrigeração e limpeza para manter a consistência do processo; A fase de deposição química eletrônica limpa a película metálica para garantir a precisão da deposição; Também pode ser usado para refrigeração de equipamentos e experimentos de laboratório para garantir a confiabilidade dos dados.
Água ultrapura deriva da água da torneira e requer tratamento profundo de vários processos: a frente reduz o TOC de 1-3ppm da água da torneira para 10-30ppb através de processos como ACF, UF, RO e EDI; Em seguida, o dispositivo de lâmpada TOC-UV diminui ainda mais para ≤0,5 ppb e finalmente atinge o padrão. Em termos de detecção, micropartículas são monitoradas com contadores de partículas líquidas, TOC、 Indicadores como resistência, oxigênio dissolvido e pH são detectados em tempo real por meio de monitores on-line, como instrumentos eletroquímicos, e alguns cenários exigem sistemas integrados para o controle dinâmico da qualidade da água.
O ciclo de monitoramento deve combinar as condições de trabalho e a configuração de mudança de qualidade da água, análise de amostragem regular, detecção oportuna de problemas de qualidade da água, para evitar a queda da qualidade do chip ou perda de produção devido ao excesso de carbono orgânico total, oxigênio dissolvido excessivo e partículas excessivas. À medida que o tamanho dos componentes semicondutores diminui e a precisão aumenta, o monitoramento de água ultrapura exige uma atualização contínua da precisão e tecnologia de detecção (como monitoramento remoto) para se adaptar às necessidades cada vez mais exigentes da indústria de qualidade da água.