Microscópio de inspeção de waferÉ um instrumento óptico para a inspeção de superfícies e estruturas internas de wafers semicondutores que ajuda os técnicos a identificar rapidamente defeitos no wafer e garantir a qualidade do produto.
Principais funções:
Detecção de defeitos: Detecção rápida de defeitos como arranhões, poluição, buracos, rachaduras e anormalidades na estrutura interna do wafer.
Medição de tamanho: Medição precisa da largura da linha, tamanho gráfico, distância, etc. no wafer através do software de medição equipado.
Análise de imagem: As imagens capturadas podem ser processadas e analisadas, como ajustes de contraste, detecção de bordas, classificação de defeitos, etc., fornecendo suporte a dados para controle de qualidade e melhorias de processo.
Microscópio de inspeção de waferAtravés da combinação de sistemas ópticos e tecnologias de imagem, a observação precisa da superfície do wafer e da microestrutura interna é realizada, cujos princípios fundamentais são:
Sistema de imagem óptica
Modo de iluminação: suporte à iluminação transmissível (para wafers transparentes / semitransparentes) e reflexiva (para wafers opacos), o tipo de fonte de luz cobre as lâmpadas halogênicas, as lâmpadas LED, etc., onde as lâmpadas LED se tornam mainstream devido à longa vida útil e ao baixo aquecimento.
Objetivos e óculos: Os objetivos são componentes ópticos essenciais, oferecendo múltiplos multiplicadores de ampliação de 5X, 10X, 20X, 40X e outros, enquanto os óculos ampliam ainda mais a imagem.
Foco: Foca a luz da fonte na superfície do wafer através da regulação numérica do abertura, aumentando o brilho da iluminação e melhorando a clareza da observação.
Tecnologia de observação multimodo
Observação de campo claro / escuro: a detecção de campo claro identifica riscos, partículas e outros defeitos maiores por meio de mudanças na intensidade da luz refletida; A detecção de campo escuro usa a luz dispersa para analisar pequenos defeitos de sub-100 nanometros.
Interferença diferencial (DIC): melhora o contraste da imagem através da diferença de distância para apresentar claramente a estrutura estereográfica de defeitos de cristal.
Observação de fluorescência e polarização: o módulo de fluorescência é opcional para detectar as propriedades fotogênicas e o módulo de polarização analisa a orientação do cristal para atender às necessidades do processo.