Solução de monitoramento on-line de concentração de gás de precursor para dispositivos de extensão de semicondutores MOCVD compostos
A deposição em fase química orgânica metálica (MOCVD) é o processo central para a preparação de semicondutores de compostos da classe III-V, como o nitreto de gálio GaN, que é essencial para controlar com precisão a concentração, a taxa de crescimento e a repetibilidade do processo do gás precursor. Para otimizar o processo, é necessário monitorar a concentração do precursor em tempo real e ajustar o fluxo de gás, a temperatura, a pressão e outros parâmetros através de feedback para formar um controle de circuito fechado. Como fabricante de sensores de gás infravermelho, a Quadrant Instruments lançou o sensor de gás infravermelho Gasboard-2062, projetado especificamente para MOCVD, que fornece monitoramento de concentração de precursor de alta precisão e em tempo real.