O pulverizador magnetrônico de corrente contínua como um equipamento de preparação de filme amplamente utilizado, muitas vezes encontra vários problemas no uso prático. Essas questões geralmente envolvem a estabilidade do processo, a qualidade do filme, a manutenção do equipamento, etc. Aqui estão algumas dicas sobre problemas comuns, análise das causas e solução:

Plasma instável ou incapaz de brilhar

1. Problemas de Desempenho:

A descarga de brilho é instável, piscando ou batendo.

Não pode brilhar normalmente, sem plasma.

Possíveis causas e medidas:

Vácuo insuficiente: o vácuo da base ou a pressão do ar de trabalho não atingem os requisitos de brilho. Verifique se o sistema de vácuo (bombas, válvulas, tubulações) está vazando.

Problemas de entrada de gás: o gás de trabalho Ar é impuro ou há muito pouco argônio na cavidade, o que resulta em brilho anormal.

Problemas com o alvo: o consumo excessivo do alvo resulta em exposição inadequada da área da pista de magnetrônio, envenenamento do alvo (em reação à pulverização) ou resfriamento inadequado da placa traseira resultando em temperatura excessiva da superfície do alvo. Verifique o estado do alvo para garantir que a água de resfriamento flua suavemente.

Máia aterrização: uma má aterrização da cavidade ou da mesa de amostras resulta em um circuito de descarga anormal. Verifique todas as conexões elétricas e os cabos de ligação à terra.

Problemas de qualidade do filme

1. Pequena adesão:

Causas: A base não é bem limpa, a temperatura da base é muito baixa, o bombardeio iónico inicial do sedimento é insuficiente (a pressão desviada não está aberta ou é muito baixa) ou a tensão no filme é excessiva.

Contramedidas: limpeza da base (ultrassom, plasma); Aumentar adequadamente a temperatura do substrato; Abrir a pressão parcial do substrato para limpeza iónica e aumentar a força de ligação da base da membrana; Otimizar os parâmetros do processo (antes do revestimento, reveste uma camada de substrato que aumenta a adesão, como o níquel).

Filme não uniforme:

Causa: erosão do alvo desigual, a base não é paralela à superfície do alvo, falha na rotação / rotação da base.

Medidas de resposta: otimizar a distribuição do campo magnético do alvo (usando alvos magnetrônicos ajustáveis); Certifique-se de que o movimento de deslocamento ou rotação da base é normal; Ajustar a posição relativa do alvo-base e o ângulo; Se necessário, utilize a barra para otimizar a distribuição da espessura da membrana.

Conselhos gerais de manutenção e prevenção

Especificação de operação: rigorosamente de acordo com os procedimentos de operação do equipamento, especialmente as etapas de bombeamento de vácuo, inflação, alimentação de início e parada.

Manutenção regular:

Limpe regularmente a câmara, substitua o óleo da bomba e verifique o anel de vedação.

Calibre componentes essenciais como vácuômetros, medidores de fluxo e fontes de energia.

Verifique o sistema de água de resfriamento e as tubulações.

Registro de processo: registro detalhado dos parâmetros, fenômenos e resultados de cada operação para facilitar o rastreamento de problemas e a otimização do processo.

Pré-aquecimento completo e pré-pulverização: pré-aquecimento completo do equipamento após a inicialização e antes do revestimento formal e pré-pulverização do alvo por tempo suficiente para limpar a superfície do alvo e estabilizar o plasma.