Máquina de revestimento do sistema de deposição da camada atômica

Máquina de revestimento do sistema de deposição da camada atômica

Conceito de design

As séries SE podem executar processos Thermal-ALD, PEALD e ALA, etc.

A série SE é altamente resistente à transformação, mas seu desempenho e estabilidade não são sacrificados por isso.

O sistema de sedimentação da camada atômica é projetado para posicionamento de produtos conveniente, estável e reprodutível.

Características do design

O sistema modular de importação de precursores é fácil de manter, reparar e expandir até quatro grupos de precursores e pode usar precursores de baixa pressão de vapor; Deslocação para evitar problemas de congestionamento e poeira

2. Design especial de baixa taxa de vazamento, que pode excluir as baixas doses de poluição que afetam os resultados do processo

3. satisfazer a maioria das necessidades atuais de processamento de materiais: óxido ou nitreto de Al, Si, Ti, Zr, Hf, etc. Metal (TBD)

Plasma remoto pode aumentar o GPC em 6% (em comparação com o ICP)

Projeto especial de admissão para melhorar a uniformidade (U% < 2%) para projetos especiais para problemas de resíduos de ângulo morto

Máquina de revestimento do sistema de deposição da camada atômica