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Quarto 616, piso 6, edifício Megaway, 14, estrada Xixianqiao, distrito de Chaoyang, Pequim
Pequim Yake Chenxu Tecnologia Co., Ltd.
Quarto 616, piso 6, edifício Megaway, 14, estrada Xixianqiao, distrito de Chaoyang, Pequim
I. Equipamento originalRi
O plasma é um estado de existência da matéria, no qual a seguinte matéria está presente: elétrons em movimento de alta velocidade; átomos neutros, moléculas, grupos atómicos (radicais livres) em estado ativo; átomos e moléculas ionizadas; Moléculas, átomos, etc. não reagem, mas a matéria permanece eletronicamente neutra.
A série NEO da Trymax utiliza as propriedades desses componentes ativos para tratar a superfície da amostra, gerando um plasma desordenado de alta energia que brilha em determinadas condições de vácuo por meio de uma fonte de energia de rádio / microondas, bombardeando a superfície do produto limpo por meio de plasma, alcançando assim fins de limpeza, modificação e cinzento fotográfico.
Dois.o Trymax NEO Série DeveUsar
Avançada:Luz gravação; Descum tira; Relações Públicas Ashing; Após a injeção de íons, após a fotogravura, o processo pré-revestimento; Traseiro/Embalagem Avançada/3D IC: Descum bumping; MEMS; Plasma Tratamento; Wafer limpeza, etc.
DispenseMate®A tecnologia de controle de pegamento fornecida pelo sistema é baseada emASYMTEK do NorteSistema avançado de colagem on-line, incluindo controle de circuito fechadoDCSistema de controle de movimento servo,Jet-on-the-Fly (em inglês)Funcionalidade de injeção de cola e programação intuitiva para o clienteFluidmove ®O software.
Outras configurações padrão incluem um detector de altura mecânico integrado e um sistema de visão totalmente automático de reconhecimento com uma fonte de luz controlada por programas. Além disso, a configuração padrão inclui um bocal de ciclo fechado programável e um controle de aquecimento de agulha programado para monitorar a temperatura e registrar dados. Também inclui o controle dinâmico de manchas pequenas.
Offline MFC / CPJsimD-593Tipo de desempenho padrão, Pesando amostras dentro da faixa numérica do usuário e inserindo os valores de medição manualmente paraFluidmoveImplementação do cálculo automático do fluxo.
Fluidmoveprogramas de programação são compatíveis e podem ser facilmente transferidos para outrosda Nordson ASYMTEKsistemas on-line, incluindoEspectro IITMeQuantum®Plataforma de colagem.
Além disso,FluidmoveSoftware fornecidoSPCRegistro de dados para rastreamento de processos e opcionalCAD (em inglês)importação.
Desde a produção em massa até a produção em massa, os usuários sempre terãoda Nordson ASYMTEKApoio de uma rede experiente de engenharia, desenvolvimento de aplicativos e serviços técnicos em todo o mundo.
o TrymaxCinzentação e gravação avançadas ao plasmaNEO300A / NEO200ASérie de plataformas
O NEO300AA série de plataformas éo TrymaxIndústria de equipamentos de semicondutores deNEOSérie de produtos avançados de cinzento e gravação ao plasma um dos novos membros.
É um sistema totalmente automático de sala única que pode configurar qualquero Trymax NEOmódulos de processo e com diâmetros de até300 milímetrosCompatível com o substrato. Pequena áreaO NEO300AConfigurado com uma única porta de carregamento.
• Características
- grande300Tamanho do wafer em milímetros/Tamanho do substrato
-Capacidade de ferramentas de ponte200-300mm
-IndividualSMIFPorta de carregamento
-3Manipulação robótica de dois braços do eixo
-4diferentes módulos de processamento:
• Microondas de baixa corrente (2,45 GHz)
• Pressão de radiofrequência (13,56 MHz)
• Fonte dupla (microondas, pressão de RF)
•DCP(RFviés, plasma de acoplamento direto)
-Excelente uniformidade e repetibilidade
-Rendimento mecânico> 100wph
-Pegada compacta
-Custo de propriedade muito baixo
- controle digital,DevicenetEthernet
-Computadores industriais baseados em janelas
• Aplicações
-Bloqueio de faixas
- DescumTratamento
-Remoção de polímeros
-Enviar fita de implante de alta dose
-Aplicações de gravação de nitreto de silício
MEMSaplicação
-Processamento de embalagens (Relações Públicas,PI,BCB,PBO)
O NEO200AA série de plataformas éo TrymaxIndústria de equipamentos de semicondutores deNEOSérie de produtos avançados de cinzentação e gravação novos membros.
É um sistema totalmente automático de sala única que pode configurar qualquero Trymax NEOmódulos de processo e com diâmetros de até200 milímetrosCompatível com o substrato. Pequena áreaO NEO200AConfigurado com fita de caixa dupla.
• Características
- grande200 milímetrosTamanho do wafer/Tamanho do substrato
-Plataforma dupla caixa
-3Manipulação robótica de dois braços do eixo
-4diferentes módulos de processamento:
• Microondas de baixa corrente (2,45 GHz)
• Pressão de radiofrequência (13,56 MHz)
• Fonte dupla (microondas, pressão de RF)
•DCP(RFviés, plasma de acoplamento direto)
-Excelente uniformidade e repetibilidade
-Rendimento mecânico> 100wph
-Pegada compacta
-Custo de propriedade muito baixo
- controle digital,DevicenetEthernet
-Computadores industriais baseados em janelas
• Aplicações
-Bloqueio de faixas
- DescumTratamento
-Remoção de polímeros
-Enviar fita de implante de alta dose
-Aplicações de gravação de nitreto de silício
MEMSaplicação
-Processamento de embalagens (Relações Públicas,PI,BCB,PBO)
Equipamento Semicondutor TrymaxdeO NEO200Série avançada de cinzento ao plasma/O sistema de gravação é Novos equipamentos de gravação e gravação a preços incríveis desempenho. Especialmente para grande200 milímetrosProjetado para aplicações de substrato.
É equipado com uma estação de carga flexível que pode ser configurada para processamento grande200 milímetrossubstratos de todos os tamanhos diferentes.
O NEO200A série integra todos os requisitos da pesquisa e do design compacto dos fabricantes de equipamentos para alcançar baixo custo de propriedade.
• Características
- grande200 milímetrosTamanho do wafer/Tamanho do substrato
-Plataforma de carregamento única para transferência semiautomática de wafers.
-4diferentes módulos de processamento:
• Microondas de baixa corrente (2,45 GHz)
• Pressão de radiofrequência (13,56 MHz)
• Fonte dupla (microondas, pressão de RF)
•DCP(RFviés, plasma de acoplamento direto)
-Excelente uniformidade e repetibilidade
-Pegada compacta
-Custo de propriedade muito baixo
- controle digital,DevicenetEthernet
-Computadores industriais baseados em janelas
• Aplicações
-Bloqueio de faixas
- DescumTratamento
-Remoção de polímeros
-Enviar fita de implante de alta dose
-Aplicações de gravação de nitreto de silício
MEMSaplicação
-Processamento de embalagens (Relações Públicas,PI,BCB,PBO)