PEALD

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Visão geral

O sistema de plasma de alta vácuo de duas câmaras PEALD é uma extensão da tecnologia ALD, através da introdução do plasma, gerando uma grande quantidade de radicais livres ativos, melhorando a atividade reativa da substância precursora, expandindo assim a seleção e os requisitos de aplicação da fonte de precursor ALD, reduzindo o tempo do ciclo de reação, ao mesmo tempo reduzindo os requisitos para a temperatura de deposição da amostra, pode alcançar a deposição a baixa temperatura ou até a temperatura normal, especialmente adequado para a deposição de película fina em materiais sensíveis à temperatura e materiais flexíveis.

Detalhes do produto

Um,Plasma de alto vácuo de câmara duplaPEALDSistemaParâmetros principais:

Faixa de preço: 1-2 milhões

Categoria de origem: Sistema de Deposição Atômica Doméstica (ALD)

Tamanho do substrato: Ф200mm

Temperatura de processo: RT-500 ± 1ºC

Número de precursores: máximo 3 grupos de gases de reação de plasma 4 grupos de precursores de reação líquidos ou sólidos

Peso: 300 kg

Dimensões (LxHxD): 1400 * 1000 * 1900mm

Uniformidade: < 1%

Dois.Sistema ALD de plasma de alto vácuo de câmara duplaAnálise de princípios aplicados:

Deposição de camada atômica (Atomiclayerdeposition) é uma técnica de formação de uma membrana de sedimento, com auto-limitação e auto-saturação, através da transferência alternada de impulsos de precursor de fase gás para a câmara de reação e adsorção química e reação no substrato de sedimento. A tecnologia de deposição de camadas atômicas é usada principalmente para depositar nanofilmes de alta precisão, sem agulhas e de alta retenção em substratos de vários tamanhos e formas.

Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition, em inglês).PEALDÉ a extensão da tecnologia ALD, através da introdução do plasma, gerando um grande número de radicais livres ativos, melhorando a atividade reativa da substância precursora, expandindo assim o escopo e os requisitos de aplicação da fonte de precursor ALD, reduzindo o tempo do ciclo de reação, ao mesmo tempo reduzindo os requisitos para a temperatura de deposição da amostra, pode alcançar a baixa temperatura ou até a temperatura normal, especialmente adequado para a deposição de película fina em materiais sensíveis à temperatura e materiais flexíveis.

3, Xiamen Qianmou Technology Co., Ltd. fornece-lhe parâmetros, preços, modelos, princípios e outras informações, a origem é Fujian, a marca é Qianmou, o modelo é QBT-A, o preço é de 1 milhão-2 milhões de RMB, mais informações relevantes podem ser consultadas, telefone de atendimento ao cliente da empresa 7 * 24 horas ao seu serviço.

Parâmetros técnicos principais:

V. Os resultados do teste mostram:

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