Sistema de Deposi??o Química em Fase Fortalecida por Plasma (PECVD)

NegociávelAtualização em12/23

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Visão geral

O sistema de deposi??o química em fase aumentada (PECVD) Vision 410, continua??o da série 790+ do PTI, continua a experiência de sucesso no servi?o de mercados diversificados

Detalhes do produto

Capacidade de sedimentação flexível

·Processo de sedimentação à base de silício -óxidos, nitretos, nitretos de oxigênio, silício não cristalino (a-Si), eCarburo de silício (SiC）

·Pesquisa e Desenvolvimento

·Protótipo

·Pequena produção -Fotônica,Iluminação de estado sólidoeMEMSe nanotecnologia

·Áreas de aplicação: camada de isolamento entre camadas, camada de passivação, camada de embalagem, camada de máscara, camada anti-reflexo

2. Valor do desempenho

1. mesa de carga manual de grande tamanho(406 milímetros)

2. Excelente limpeza

3. AltoUniformidade

4.Alto rendimento

5. Software confiável

6.Área compacta

7.Eficaz em termos de custos

8.Fácil de manter

9.Adopção de componentes de cabeça da indústria

Soluções comprovadas

· ContinuouPTI 790/790+Conceito de design

ouCarregamento manual, sem bloqueio de carga (suporte a lotes ou wafers monoblocos)

ouInstalado mais de400Sistema

ouTecnologia simples e estrutura robusta Preço competitivo, qualidade confiável

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统

Espaço compacto para poupar espaço

等离子体增强化学气相沉积（PECVD）系统

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