Sistema de análise de impurezas em gases semicondutores

NegociávelAtualização em02/03

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Visão geral

À medida que a tecnologia de semicondutores avança e os lasers de semicondutores são cada vez mais usados em áreas como comunicações, processamento de informações e outros, os tipos e quantidades de gases especiais usados no processo de fabricação estão aumentando. Este sistema utiliza cromatografia de gás para detectar automaticamente o conteúdo de impurezas e componentes em gases de materiais semicondutores.

Detalhes do produto

Germaniano medido (GeHfosfeto de hidrogênio (O PH(Arsénico)AsHdiclorosilano (DCStriclorosilano (TCSComposição de impurezas em gases semicondutores.

Detecção automática de alta precisão (fácil de operar) com um cromatográfico de gás de alto desempenho.

Detecção de hidrogênio (H2oxigênio (O2Azoto (N2metano (O CH4o monóxido de carbono (CODióxido de carbono (CO2), eC2Composição,C3impurezas como componentes.

Germaniano medido (GeHfosfeto de hidrogênio (O PH(Arsénico)AsHdiclorosilano (DCStriclorosilano (TCSComposição de impurezas em gases semicondutores.

Detecção automática de alta precisão (fácil de operar) com um cromatográfico de gás de alto desempenho.

Detecção de hidrogênio (H2oxigênio (O2Azoto (N2metano (O CH4o monóxido de carbono (CODióxido de carbono (CO2), eC2Composição,C3impurezas como componentes.

Germaniano medido (GeHfosfeto de hidrogênio (O PH(Arsénico)AsHdiclorosilano (DCStriclorosilano (TCSComposição de impurezas em gases semicondutores.

Detecção automática de alta precisão (fácil de operar) com um cromatográfico de gás de alto desempenho.

Detecção de hidrogênio (H2oxigênio (O2Azoto (N2metano (O CH4o monóxido de carbono (CODióxido de carbono (CO2), eC2Composição,C3impurezas como componentes.

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