Revestimento homogênico

Revestimento homogênicodo WS-650Na base de alta velocidade de rotação, gotejando vários tipos de gel, usando a força centrífuga para que o gel seja uniformemente revestido na base, a velocidade e o tempo de rotação, o coeficiente de viscosidade entre o gel e a base afetarão a espessura da membrana, o processo de rotação e a estabilidade do sistema de rotação também têm um grande impacto na qualidade da membrana.

1. tamanho da amostra: φ3 ~ 300mm

Aceleração: 80000rpm / s (carga vazia), 30000rpm / s (carga: wafer padrão de 100mm)

Velocidade: 1 ~ 12000rpm, resolução do servomotor 4000P / rev

Direção de rotação: motor Hz opcional, direção de rotação bidirecional ajustável

Tecnologia de proteção de fluxo de ar CDA/N2

6. Módulo de gota automática opcional, módulo de remoção de wafer EBR

7. várias bandejas opcionais, para amostras de vários materiais

Revestimento homogênicoSolução de bandeja

Bandeja de vácuo comum: 10 ~ 150mm sem necessidade de substituição.

Incorporado: o centro da bandeja faz uma ranhura redonda, a amostra pode ser incorporada para evitar que a espessura excessiva da amostra cause o efeito de turbulência de gás.

3. tipo celular: aplicável a materiais moles e materiais frágeis de deformação ultrafina.

Bandeja de cartão: aplicável a amostras que não podem ser absorvidas ao vácuo, ou amostras que precisam ser tratadas de ambos os lados, porque a área de contato com a bandeja precisa ser minimizada quando fixada, também pode ser usada a bandeja de cartão, a velocidade de rotação da bandeja de cartão não deve ser muito alta.