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No. 5500, estrada Yuanjiang, distrito de Minhang, Xangai
Shanghai Maikewei Semiconductor Technology Co., Ltd
No. 5500, estrada Yuanjiang, distrito de Minhang, Xangai
1 Visão geral do produto:
Deposição de gás físico (PVDUma plataforma é um dispositivo que gaseifica a superfície de origem de um material sólido ou líquido em átomos, moléculas ou íons gaseosos por meio de métodos físicos em um ambiente de vácuo e deposita na superfície do substrato para formar uma película fina com uma função específica.PVDAs plataformas geralmente incluem componentes como sistemas de vácuo, sistemas de aquecimento, sistemas de controle de gás, câmaras de sedimento, suportes de matriz e sistemas de acionamento.AEA plataforma de deposição de fase gás física pode integrar esses componentes tecnológicos-chave para fornecer soluções eficientes e precisas de deposição de película fina.
2 Utilização do equipamento:
AEOs principais usos da plataforma de deposição de gás físico incluem:
Modificação da superfície: Melhorar as propriedades da superfície do material de substrato ao depositar uma película fina com propriedades resistentes ao desgaste, à corrosão, à condutividade elétrica, ao isolamento e à lubrificação.
Preparação de filmes funcionais: preparação de filmes com funções de condução de luz, piezoelétrica, magnética, supercondutora e outras, aplicados em eletrônica, óptica, sensores e outras áreas.
Decoração e proteção: Depósito de filmes metálicos ou de ligas em superfícies como relógios de alta qualidade, jóias, materiais de construção, etc. para proporcionar proteção estetica e anticorrosiva.
Micronanoprocessamento: na microeletrônica, semicondutores, nanotecnologia e outras áreas, para preparar estruturas de filme fino de alta precisão e alta qualidade.
3 Características do equipamento
Alta precisão e uniformidade: obtenha a alta precisão e uniformidade do depósito do filme através do controle preciso dos parâmetros de sedimentação, como temperatura, pressão, fluxo de gás, etc.
Versatilidade: suporte a váriosPVDTecnologias como revestimento de evaporação a vácuo, revestimento de pulverização a vácuo, revestimento de íons a vácuo, etc., atendem às diferentes necessidades de aplicação.
Proteção ambiental e poupança de energia: sedimentação em um ambiente de vácuo para reduzir a poluição ambiental; Adote tecnologias de uso eficiente da energia para reduzir o consumo de energia.
Automação e Inteligência: Integração de sistemas de controle por computador para operações automatizadas e monitoramento inteligente, melhorando a eficiência de produção e a qualidade do produto.
Engenharia AngstromdeEntre PVDA plataforma é um sistema físico de deposição de gás, que apresenta algumas de suas características técnicas e aplicações:
Parâmetros técnicos e características:
Diferentes modelos.Tubo PVD NexdepO dispositivo pode variar em indicadores técnicos específicos, se você quiser obter mais detalhes, consulte o manual do produto relevante ou entre em contato diretoEngenharia AngstromEmpresa. Além disso, a grande plataforma de gerenciamento de instrumentos da Universidade de Tianjin e alguns anúncios de compra tambémTubo PVD NexdepInformações específicas sobre os parâmetros do dispositivo, como:
1,O tamanho da câmara é400 milímetros(comprido)× 400 milímetros(Largura)× 500 milímetros(alto), com revestimento de aço inoxidável removível; Porta dianteira é porta deslizante, porta traseira é estrutura de articulação, adotandoOvedação de anel; A porta da câmara tem janela de observação integrada e um dispositivo anti-sedimentação.
2,Em termos de sistema de vácuo, a bomba frontal usa uma bomba de óleo, velocidade de bombeamento não inferior a9cfmA bomba principal usa uma bomba molecular, a velocidade de bombeamento não é inferior a685L/sequipamento;O Inficon MPG400Regulador de vácuo, gama de medição a partir de3.75e-9torrpara a atmosfera; Em ambientes limpos e secos, o vácuo é melhor do que5e-7torr。
3,Equipamento do sistema de vaporização 1 fonte de evaporação de metais resistentes ao calor e 1 Controlador de fonte de energia de evaporação, resistência térmica à fonte de energia de evaporação2,5 kWAdota controlador de energia de silício controlável.
4,Equipamento do sistema de detecção de espessura da membrana 1 Uma sonda de detecção de espessura de membrana com função de resfriamento a água para melhorar a precisão da detecção e a sonda é instalada em um suporte rígido para evitar colisões que afetem a precisão.
5,Diâmetro de carga da amostra150 milímetrosamostra, compatível com amostras de tamanho pequeno, com função de rotação, velocidade de rotação10-30rpmajustável; O sistema está equipado com uma fonte de evaporação em modo de controle automático e uma mesa de amostras aberta.