Deposição de camada atómica ALD compacta e econômica

NegociávelAtualização em02/06

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Este dispositivo de deposição de camada atómica ALD é especialmente adequado para dispositivos de mesa pequenos para usuários de pesquisa científica. É econômico e prático, fácil de operar, de qualidade estável e confiável, custos de consumíveis pós-venda extremamente baixos, manutenção conveniente e fácil de operar. Laboratórios de professores especializados em ALD são amplamente usados.

Detalhes do produto

Apresentação do equipamento:
Este dispositivo de sedimentação da camada atómica ALD,Equipamentos de mesa pequenos especialmente para usuários de pesquisa. É econômico e prático, fácil de operar, de qualidade estável e confiável, custos de consumíveis pós-venda extremamente baixos, manutenção conveniente e fácil de operar. Tem sido amplamente utilizado em laboratórios de professores especializados em ALD.

Equipe de Pesquisa e Desenvolvimento:

O dispositivo foi desenvolvido por professores do renomado grupo do professor Roy G. Grodon da equipe ALD de Harvard.

Acadêmico Roy G. Gordon, Professor Thomas D. Cabot, Departamento de Química da Universidade de Harvard, EUA. As áreas de pesquisa envolvem matemática aplicada, física, química e ciências dos materiais. Funcões especiais (Airy, Bessel, Weber, Dawson, Morse, etc.) foram desenvolvidas no campo da matemática aplicada e aplicadas em áreas como a mecânica quântica e a dinâmica química. No campo da química física, a função potencial "Gordon-Kim" foi proposta para o cálculo preciso das forças de interação entre moléculas. No campo da ciência dos materiais, desde a década de 1980, o Acadêmico Roy Gordon se dedicou ao estudo de precursores e processos de deposição química em fase gás (CVD) e deposição de camadas atômicas (ALD), desenvolvendo uma série de precursores que podem ser usados para o cultivo de metais puros, óxidos metálicos, nitretos e sulfetos e para aplicações na produção industrial. Os métodos técnicos inventados pelo Acadêmico Roy Gordon, atualmente aplicados na indústria, incluem: preparação CVD para estruturas de membrana multicamada de óxido de estanho / dióxido de silício para vidro de janela de poupança de energia;Rapid ALD preparação de nano Al2O3 / SiO2 multicamada de membrana para dispositivos de filtragem;ALD prepara nanofilmes de nitreto de titânio para barreiras de difusão de fios de cobre e alumínio em chips de computador;Preparação de CVD para a película ITO aplicada a células solares de película fina; CVD prepara a película de nitreto de alumínio para aplicação em monitores luminescentes de campo.

Características do equipamento:

1. O tamanho do dispositivo é pequeno, o volume é pequeno,Especialmente adequado para pesquisas com materiais altamente sensíveis e com alto vácuoSem requisitos de sala limpa profissional, o modelo mínimo pode ser colocado diretamente dentro da caixa de luvas. Diferentes formas de conexão também podem ser estabelecidas de acordo com a necessidade e a caixa de luvas;

2. equipamento adequado para pesquisa de nível científico, pode fazer um substrato mínimo de 2 polegadas;

3. embalagem em pó pode ser feita;

4. pode estarSelecção da atualização de campo do tipo térmico para o tipo de corpo de plasma；

5. Pode ser personalizado até quase uma centena de placas de amostras de substrato de acordo com as necessidades.

Se estiver interessado, entre em contato conosco agora.

Casos de usuário:

Universidade de Harvard, Universidade de Helsínquia (origem da ALD), Universidade Northwest, Universidade de Cambridge (Reino Unido), Universidade de Oxford, Universidade Rice, Universidade de British Columbia (Canadá), ENS-Paris (França, Instituto Superior de Ensino), Instituto Nacional de Ciência dos Materiais (Japão, vários), Universidade de Waseda (vários), Universidade de Tóquio, Instituto de Pesquisa Quântica de Pequim, Universidade de Pequim, Universidade de Bristol (Reino Unido), Universidade de Sheffield e muitos outros

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