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5º andar, Edifício Internacional Helen, 778 Baoshan Road, Hongkou, Xangai
Shanghai Juna Technology Co., Ltd
5º andar, Edifício Internacional Helen, 778 Baoshan Road, Hongkou, Xangai
Microscópio confocal laser 3D de alta velocidade NS3800É um microscópio de varredura a laser confocal de alta velocidade (CLSM) de medição tridimensional (3D) preciso e confiável. Realize microimagens confocais em tempo real com módulos de varredura óptica rápida e algoritmos de processamento de sinal. Possui soluções * para medição e detecção de estruturas tridimensionais microscópicas, como chips semicondutores, produtos FPD, equipamentos MEMS, substratos de vidro, superfícies de materiais e muito mais.

Benefícios (Performance & Benefits):
Medição óptica 3D de alta resolução sem danos Compensação automática de inclinação
Imagem confocal em tempo real Modo simples de análise de dados
Zoom óptico múltiplo Scan duplo Z
Detecção de características de substratos semitransparentes
CCD em tempo real e imagem confocal Sem preparação de amostra
Foco automático
Campo de Aplicação (Application Field):
O NS-3500 é uma solução promissora para medir materiais de baixa dimensão.
A altura, largura, ângulo, área e volume de estruturas de mícrons e submicrônicos podem ser medidos, por exemplo
- Semicondutores: gráficos IC, altura de convexão, altura da bobina, detecção de defeitos, processo CMP
- Produtos FPD: detecção de tela táctil, padrão ITO, altura do espaço de coluna LCD
- Dispositivos MEMS: contorno tridimensional da estrutura, rugosidade da superfície, gráficos MEMS
- Superfície de vidro: células solares de película fina, textura de células solares, padrão a laser
- Pesquisa de materiais: detecção de superfície do molde, rugosidade, análise de rachaduras
Dimensão (Dimensão):

Microscópio confocal laser 3D de alta velocidade NS3800Especificação (Specification):
Modelo |
Microscópio NS-3800 |
Observação |
||||
Magnificação da lente |
10x |
20 vezes |
50 vezes |
100x |
||
Alcance de observação/medição |
nível (H): μm |
1400 |
700 |
280 |
140 |
|
垂直 (V): μm |
1050 |
525 |
210 |
105 |
||
Área de trabalho: mm |
16.5 |
3.1 |
0.54 |
0.3 |
||
Diâmetro numérico (N.A.) |
0.30 |
0.46 |
0.80 |
0.95 |
||
Zoom óptico |
x1 para x6 |
|||||
Ampliação Total |
178x to 26700x |
|||||
Sistema óptico de observação/medição |
Sistema óptico confocal com agulha |
|||||
Medição de altura |
Medição do alcance da varredura |
Varredura fina: 100 μm (e/ou) Varredura longa: 7 mm [NS-3800L] |
Nota 1 |
|||
| Varredura fina: 400 μm (e/ou) Varredura longa: 10 mm [NS-3800D] | ||||||
Varredura fina: 200 μm (e/ou) Varredura longa: 10 mm [NS-3800T] | ||||||
Resolução de exibição |
0,001 μm |
|||||
Taxa de repetição σ |
0,010 μm |
Nota 2 |
||||
Medição da largura |
Resolução de exibição |
0,001 μm |
||||
Taxa de repetição 3σ |
0,02 μm |
Nota 3 |
||||
Memória de quadro |
Pixel |
1024x768, 1024x384, 1024x192, 1024x96 |
||||
Imagem monocromática |
12 bits |
|||||
Imagens coloridas |
8 bits para cada RGB |
|||||
Medição de altura |
16 bits |
|||||
Taxa de quadros |
Scan de superfície |
20 Hz a 160 Hz |
||||
Varredura de linha |
~ 8 kHz |
|||||
Função automática |
Ganho automático |
|||||
Fonte de luz de medição confocal a laser |
comprimento de onda |
405 nm |
||||
Saída |
~ 2mW |
|||||
Classe do laser |
Classe 3b |
|||||
Componentes de recepção a laser |
PMT (tubo fotoelétrico multiplicador) |
|||||
Fonte de luz de observação óptica |
luz |
LED de 10W |
||||
Câmera de observação óptica |
Componente de imagem |
1/2" Sensor CCD de imagem colorida |
||||
Resolução de registro |
640x480 |
|||||
Ajuste automático |
Ganho, Velocidade do obturador, Balanço de branco |
|||||
Unidade de processamento de dados |
PC |
|||||
fonte de alimentação |
tensão |
100 to 240 VAC, 50/60 Hz |
||||
corrente elétrica |
500 VA máxima. |
|||||
peso |
Microscópio |
Aproximadamente ~50 kg (Unidade de cabeça de medição: ~12 kg) |
||||
controlador |
~ 8 kg |
|||||
Sistema de Isolamento |
Sistema de isolamento flutuante |
Opção |
||||
NOTA 1: A varredura fina é realizada pelo atuador piezoelétrico (PZT).
Nota 2: Realize 100 medições em uma amostra padrão (passo de 1 μm) com uma lente de 100 x / 0,95.
Nota 3: Realize 100 medições em uma amostra padrão (intervalo de 5 μm) com uma lente de 100×/0,95.