GVC-2000 pulverizador de íons magnetrônicos

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As partículas do sputterador de íons magnetrônicos GVC-2000 são menores e mais adequadas para a observação de imagens de alta multiplicação, adaptando-se ao eletroscópio de emissão de campo / campo de alta resolução.

Detalhes do produto

GVC-2000 pulverizador de íons magnetrônicosDescrição

Sem aumento de temperatura e perda de calor na superfície da amostra.

GVC-2000磁控离子溅射仪

Gráfico de amostragem GVC-2000 Gráfico de outros equipamentos de amostragem

As duas imagens acima são imagens de eletroscópio de amostras de filme de filtro, a imagem à esquerda é o mapa de observação de eletroscópio após a pulverização de ouro GVC-2000, pode ser visto que a forma da amostra é verdadeira e completa, a imagem à direita é a imagem de observação de eletroscópio após a pulverização de ouro de outros dispositivos, pode ser visto que danos térmicos são graves, quase impossíveis de reconhecer como amostras do mesmo tipo.

As partículas são menores e mais adequadas para a observação de imagens de alta duplicação, adaptando-se a emissão de campo / eletroscópio de emissão de campo de alta resolução.

GVC-2000磁控离子溅射仪

Tamanho da partícula de ouro: 6 ~ 10nm

GVC-2000磁控离子溅射仪

Film de cerâmica, material de revestimento Pt, 100.000 vezes a imagem, sem sensação de partículas Material de filme de filtro, material de revestimento Pt, 200.000 vezes a imagem, sem sensação de partículas.

GVC-2000 pulverizador de íons magnetrônicosPulverização de alta corrente de baixa tensão, maior eficiência.

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