Pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuo

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Visão geral

GVC-2000TD pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuo pode preparar uma variedade de filmes metálicos, monométricos e inorgânicos não metálicos; Sem quebrar o vácuo, a preparação de filmes compostos de múltiplas camadas pode ser realizada.

Detalhes do produto

高真空磁控离子溅射仪

I. Vantagens do GVC-2000TD de alto vácuo sputters de íons magnetrônicos:

1, pode preparar uma variedade de filmes metálicos, monométricos e inorgânicos não metálicos;

2, sem quebrar o vácuo, pode ser realizada a preparação de múltiplas camadas de película composta;

Operação de um clique, controle totalmente automático, alto grau de inteligência;

Consistência e repetitividade;

5, parâmetros de trabalho de múltiplos alvos incorporados, sem a necessidade de tentar o processo de revestimento;

6, tamanho pequeno, estrutura compacta, muito poupança de espaço.

　　Parâmetros do produto do pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuo GVC-2000TD:

Dimensões (host)	424 (L) × 345 (D) × 420 (H)	Alimentação de entrada	220V / 50Hz 1000W
Cabeça de pulverização 1	Pulverização magnetrônica de corrente contínua	Alvos disponíveis	Metais alvo
Cabeça de pulverização 2	Pulverização de magnetrônicos de radiofrequência	Alvos disponíveis	alvo não metálico inorgânico
Sistema de vácuo	Bomba molecular de turbina+Bomba de vácuo rotativa	Velocidade de bombeamento	90L / s + 1.1L / s
Medição de vácuo	Regulador de vácuo composto	Alcance de medição	1E-3 ~ 1E5Pa
Câmara de vácuo	φ 200 × 130 milímetros Vidro de borosilício alto	Batimento de bombeamento	10 minutos (≤5E-3Pa）
Tamanho da amostra	φ 90 milímetros	Alternação do banco de amostras	Controle automático
Dimensões do alvo de pulverização	φ 57 milímetros(Espessura 0,1-2 milímetros）	Vácuo de trabalho	0,1-2Pa
Interface de operação	7 Polgadas TFT Tela LCD táctil	Linguagem de operação	Chinês (opcional em outros idiomas)
Frigorífico	Frigorífico de mesa pequeno	Potência do refrigerador	180W
Barra pré-pulverização	Barreira pré-pulverização de controle totalmente automático padrão
Espessor de membrana (opcional)	A espessura do revestimento pode ser exibida em tempo real e o processo de revestimento pode ser controlado através da configuração para medir a precisão 0,01 nmConfigurar a precisão 0,1 nmuma única definição de alcance 1-999nm
Espessor de membrana (opcional)
Componente de controle de temperatura (opcional)	Módulo de aquecimento de mesa de amostras 300℃/500℃
Componente rotativo (opcional)	Rotação inclinada, rotação planetária, etc.
Carro (opcional)	Montar o host, a fonte de energia de RF, o refrigerador de água, etc. juntos, boa integridade
Ambiente de instalação	220V / 10A Sóquete de três buracos um, pureza 4N Argônio de alta pureza e superior (pressão de saída) 0,12 MPa）

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