GVC-2000T pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuo

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Visão geral

GVC-2000T alto vácuo pulverizador de íons magnetrônicos é um pulverizador de íons magnetrônicos fácil de manipular, para máquinas de revestimento de tecnologia de automação dar o melhor valor de uso no mercado. Ele é usado em produtos de pré-tratamento de amostras não condutoras para melhorar a resolução de tela de imagem 3D, condutividade da amostra, redução da carga eletrônica e redução dos danos da luz em amostras mais sensíveis.

Detalhes do produto

高真空磁控离子溅射仪

GVC-2000T pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuoÉ um pulverizador de íons magnetrônicos fácil de manipular que dá o melhor valor de uso no mercado para máquinas de revestimento de tecnologia de automação. Ele é usado em produtos de pré-tratamento de amostras não condutoras para melhorar a resolução de tela de imagem 3D, condutividade da amostra, redução da carga eletrônica e redução dos danos da luz em amostras mais sensíveis.

I. Descrição

Produtos de conhecimento totalmente automatizados;

Sem danos térmicos, maior eficiência, grau de partículas mais fino, mais adequado para eletroscópios de alta resolução.

II. Princípios básicos

Aplique matérias-primas condutoras (como Pt-Pd, Pt, Au e Pd) ao dispositivo na superfície da amostra. Além disso, as amostras não condutoras são usadas para a visualização de dados sob o eletroscópio de transmissão e para manter a superfície da amostra protegida da introdução de feixes de íons e ajudar a mobilidade dos dispositivos eletrônicos. Eles podem até ser gerados como classes elétricas de plástico.

Área de aplicação

Preparação de amostras de eletroscópio de varredura de alta resolução (multiplicador de ampliação real ≥ 100K);

Preparação de eletrodos - pode preparar vários eletrodos metálicos, eletrodos ITO.

Configuração do equipamento e parâmetros técnicos

modelo&Nome	GVC-2000T pulverizador de íons magnetrônicos de alto vácuo
Sistema de vácuo	Bomba molecular turbo (importação): Leipzig 90i, Alemanha (bomba molecular monomagnética em suspensão, velocidade de bombeamento de 90 L/s) Bomba de vácuo rotativa: Zhejiang sobrevoa a VRD-4 (velocidade de bombeamento de 1.1L/s)
Medição de vácuo	Regulador de vácuo composto de gama completa (importação): 1.0E5Pa-1E-4Pa
Vácuo limite do sistema	≤5E-3Pa
Energia de pulverização	Energia de pulverização de magnetrón, potência 150W
Alvos disponíveis	Todos os alvos metálicos, alvos ITO
Tensão de pulverização	300-600V, Varia de acordo com o alvo selecionado e os parâmetros de controle
Corrente de pulverização	0-200mA contínuo ajustável, passo 5mA
Tempo de pulverização	0-9999s, Comprimento de passo ajustável contínuo 1s
Interface de operação	7 polegadas TFT colorido LCD touchscreen, resolução 800 × 480
Modo de operação	Operação com um clique
Batimento de bombeamento	<15 minutos
Modo de controle	Basta definir a corrente e o tempo de pulverização para controle totalmente automático Disponibilidade de bloqueio de pré-pulverização (tempo de pré-pulverização ajustável), controle totalmente automático
Função de proteção	Interbloqueio de software e hardware, prevenção de mau funcionamento, proteção contra corrente e vácuo, etc.
Diâmetro da amostra	φ125mm， Rotável, controle manual automático, velocidade ajustável de 4-40rpm
Câmara de vácuo	Vidro de boro de silício alto, tamanho especificado de aproximadamente φ200 × 130mm
Alimentação de energia	220V 50Hz Potência 800W
Tamanho & Peso	Peso 424 (comprimento) x 345 (profundidade) x 420mm (altura), 25 kg (peso líquido)
Método de arrefecimento	Refrigeração interna
Opção	Selecção do banco de amostras, controle da espessura da membrana, monitoramento da temperatura, etc.