Máquina de gravação de plasma ICP

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A gravadora de plasma ICP WINETCH é um sistema de plasma ICP de alto custo-benefício projetado para as necessidades dos clientes de pesquisa e desenvolvimento empresarial. Como um sistema multifuncional, ele obtém um processo de gravação ICP de alto desempenho através de um design de sistema otimizado e configurações flexíveis. A estrutura compacta do equipamento ocupa uma pequena área, o design mecânico profissional e o software de operação de automação otimizado tornam o equipamento fácil de operar, seguro e o processo estável e repetitivo.

Detalhes do produto

A gravação seca ICP é uma técnica comum de micronanoprocessamento, cujo princípio é usar campos elétricos de alta frequência para ionizar o gás para formá-lo em plasma e, em seguida, introduzir o plasma na câmara de reação para usar a reação química dentro da câmara de reação para corroer ou sedimentar o material. Na gravação seca de ICP, o papel do campo elétrico de alta frequência é ionizar as moléculas de gás para formar elétrons e íons. Os íons aceleram o movimento sob o efeito do campo elétrico e colidiram com as moléculas de gás dentro da câmara de reação, formando o plasma. O plasma tem propriedades de alta temperatura e alta energia, que permitem processar materiais com alta eficiência. A gravação seca ICP é caracterizada por ser capaz de alcançar uma gravação de alta precisão, alta velocidade e alta uniformidade, e danos menores ao material, frequentemente usados na fabricação de dispositivos microeletrônicos, processamento de dispositivos ópticos e outros domínios. No entanto, é importante notar que, ao gravar com o método seco ICP, os parâmetros adequados, como gás, potência e temperatura da sala de reação, devem ser escolhidos para evitar efeitos negativos no material.

　　Máquina de gravação de plasma ICP WINETCHÉ um sistema de plasma ICP de alto custo-benefício projetado para as necessidades dos clientes de pesquisa científica e desenvolvimento empresarial. Como um sistema multifuncional, ele obtém um processo de gravação ICP de alto desempenho através de um design de sistema otimizado e configurações flexíveis. A estrutura compacta do equipamento ocupa uma pequena área, o design mecânico profissional e o software de operação de automação otimizado tornam o equipamento fácil de operar, seguro e o processo estável e repetitivo.

　　Características do produto da gravadora de plasma ICP WINETCH：

● Compatível com 4/6/8 polegadas, sistema de transmissão de vácuo de wafer único

Baixo custo e alta confiabilidade, adequado para pesquisa e desenvolvimento e produção em pequena escala

● Estrutura simples do equipamento, forma pequena

● Fácil de operar, fácil de controlar automaticamente, adequado para gravação de substrato de grande área

● Excelente uniformidade de gravação, taxa de gravação rápida

● Sistema de controle de software de condução e gerenciamento de fórmula que atenda aos padrões de semicondutores

● Escolha mais alto do que o sexo oposto, menor dano por gravação

● Alta controlabilidade do perfil da seção, a superfície da gravação é plana e suave

Máquina de gravação de plasma ICPParâmetros técnicos:

Tamanho do wafer: compatível com 4/6/8 polegadas

Processo aplicável: Gravação ao plasma

Materiais aplicáveis: SiC, Si, GaN, GaAs, InP, Ploy, etc.

Área de aplicação: semicondutores compostos, MEMS、 Aparelhos de potência, pesquisa científica e outras áreas

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