Sistema de Gravação Seca ao Plasma (ICP/CCP)

Modelo Pluto-E100Sistema de Gravação Seca ao Plasma (ICP/CCP)É um equipamento de pesquisa científica de baixo custo, adequado para laboratórios de instituições científicas, com todo o sistema destinado a gravar a seco em amostras de 4 polegadas ou menos. O sistema inclui câmaras de reação, sistemas de vácuo, sistemas de RF, sistemas de vias de ar de reação, controle elétrico, programas de software e vários subsistemas.

O sistema completo é controlado por software totalmente automatizado, suporta a escrita de receitas e a capacidade de executar automaticamente várias etapas do processo. O dispositivo tem funções de proteção de segurança como interbloqueio, memória de desligamento, alarme automático, proteção da bomba molecular. Para garantir a flexibilidade do equipamento, um certo espaço de atualização é reservado.

Sistema de Gravação Seca ao Plasma (ICP/CCP)Parâmetros técnicos:

Câmara de reação: liga de alumínio T6060, adequada para amostras de 4 polegadas ou abaixo;

O sistema de vácuo é composto por bombas moleculares e bombas mecânicas, e o sistema de medição de vácuo usa um pressômetro capacitivo;

O equipamento é equipado com uma fonte de alimentação de radiofrequência de 13,56 MHz de 1000w, um correspondente automático de radiofrequência, bem como cabos de radiofrequência e conectores de radiofrequência dedicados;

Equipado com 4 vias de gás de reação, atualização máxima para 6 vias;

O sistema completo da máquina de gravação de plasma ICP é um sistema de controle de automação, o sistema de automação é implementado conjuntamente por meio de PLC, controle industrial e software de controle.

Sistema de Gravação Seca ao Plasma (ICP/CCP)Áreas de aplicação:

Fabricação de microeletrônica: Gravação de plasma é amplamente utilizada na fabricação de circuitos integrados e chips para a fabricação de estruturas finas em circuitos, como transistores, capacitores, etc., e para reparar ou ajustar dispositivos eletrônicos em chips.

Fabricação de dispositivos ópticos: a tecnologia de gravação de plasma pode ser usada para fabricar dispositivos ópticos, como fibras ópticas, condutores de onda óptica, etc. Ao controlar a energia e a densidade do plasma, a estrutura e a forma necessárias podem ser formadas no material óptico.

Manufatura de MEMS: as gravadoras de plasma podem ser usadas para fabricar microestruturas e dispositivos em sistemas microeletromecânicos (MEMS), como microsensores, equipamentos de comunicação sem fio e sistemas de movimento micromecânicos.

Fabricação de máscaras: Gravação de plasma é usada para fabricar padrões na máscara, bem como para reparar ou modificar estruturas sutis na máscara.

Aplicações biomédicas: Gravação de plasma pode ser usada na área biomédica, como a fabricação de microfluidos, biochips, etc., para obter a preparação de microestruturas para análise biológica e experimentos.

Nanotecnologia: Gravação de plasma pode ser usada para fabricar nanomateriais e nanoestruturas, como nanotubos, nanopartículas, etc., para obter modificação e controle precisos dos materiais através do controle da composição e das condições de reação do plasma.

Fabricação de wafers: durante o processo de fabricação de wafers, a gravadora de plasma usa gás tetrafluorocarbono para gravar linhas de folhas de silício, bem como a gravação de nitreto de silício e a remoção de cola fotográfica. Ao ajustar a composição do gás, a profundidade da gravação pode ser controlada com precisão para obter uma gravação de alta precisão a nível de mícrons.